就目前而言国产光刻机领域，国内共有三个机构接到了光刻机研发任务，分别为中国电科，上海微电，长春光机所。这三个机构就目前而言是最有希望自主制造光刻机的单位，在这其中我们经常听到的就是上海微电与长春光机所，但是很少有人知道中国电科。
最近得到的一些消息显示，上海微电与电科都是在突破DUV光刻机，而长春光机所是EUV光刻机。通过搜索和其他渠道我了解到，在光刻机部分2021年会陆续推出几台可以量产的光刻机，虽然制程可能会不够，但是解决了无的问题。而长春光机所的任务就是EUV光刻机，在EUV被ASML全面垄断的情况下，长春的任务无疑是最重要的一环。
通过查询得知，长春光机所与上海微电竟然有相关技术的互补，而上海微电本身就是脱胎于长春光机所，上海微电所持有的相关技术与荷兰ASML技术路径很类似，这也意味着突破EUV光刻机变成了可能，根据相关消息显示这种光刻机可能会在2-3年内就可以实现量产，虽然整体肯定不如荷兰ASML，但是解决了EUV光源的没有问题。
那么华为在做什么呢？这些光刻机如果真的量产了，会给华为使用么？答案是肯定的，华为与中科院已经开启了合作模式，而中科院对华为的合作，可以为我国的半导体产业增加强心剂。华为最近的动作其实很多，但是涉于一些不便透露的信息，我就不说了。现在好消息已经有了，那么下一步就是解决先进制程的问题，我相信用不了多久一定可以实现。
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