【12月21日讯】相信大家都知道，在整个芯片产业链中，共分为芯片设计、芯片制造以及芯片封测三大领域，其中芯片制造也被誉为整个芯片产业链中最硬核的环节，因为在芯片制造中会牵涉到各种技术、材料、设备等等，尤其是芯片制造最为关键的设备—光刻机，目前更是只有荷兰ASML公司可以生产EUV光刻机设备，而EUV光刻机设备也是制造高端芯片产品必不可少的设备，但实际上在芯片制造过程中，还有一样产品同样也非常关键，它就是光刻胶，光刻胶虽然是一种有机化合物，但也可能影响芯片制造的效果。
当然光刻胶不仅仅可用于芯片制造，还可以应用到印刷工业领域等等，具有非常广的应用能力，但就是这样一个关键的半导体材料，却一直都被日本企业所垄断，例如东京应化，富士胶片等日本企业，都是全球光刻胶的龙头企业，在全球光刻胶市场中，掌握着绝大的行业话语权，长期维持对光刻胶的垄断，导致很多芯片代工企业，都必须要和日本企业合作，前一段时间爆发的日韩半导体事件，三星、SK海力士等等，就遭到了光刻胶产品断供，一度不得不面对停产的尴尬局面，可见作为如此关键的芯片材料，其地位甚至不亚于光刻机；
就在近日，中国企业终于在光刻胶领域传来了好消息，将打破日本企业长期对光刻胶产品的垄断地位，根据科创板日报最新消息：“南大光电控股子公司自主研发的ArF光刻胶产品已经通过了客户认证，成为了国内首个国产ArF光刻胶产品；”意味着国产光刻胶也可以应用到7nm芯片生产制造，让国产高端芯片制造摆脱国外技术依赖，将发挥极为重要的作用，更重要的是南大光电在关键芯片材料上取得技术突破，不仅仅打破日本技术垄断，也可以为将来生产高端工艺国产芯片打下基础。
虽然目前国产光刻胶取得技术突破，但距离生产高端芯片还有很长一段路要走，因为 在很多技术、设备等关键领域，还有待取得技术突破，当然就在中科院正式官宣以后，相信我们也肯定会集合更多多的顶级科技力量，为国产芯片产业链的技术提升做出巨大的贡献，不得不说我们国产芯片产业链中，芯片设计最杰出的代表是华为海思，而芯片制造最杰出的代表是中芯国际，光刻机厂商最杰出的代表是中芯国际，如今芯片材料领域最杰出代表则有南大光电，可以说在整个芯片产业链中，已经开始涌现出越来越多像南大光电、华为海思等这类的企业；整个国产芯片产业链发展，也在不断取得技术突破，尤其是国内芯片代工巨头—中芯国际，目前更是已经在尝试生产7nm芯片，一旦中芯国际也可以获得EUV光刻机设备，未来也可以生产更加高端的5nm、3nm工艺制程芯片产品。
最后：面对华为、中兴的当头一棒，也让我们彻底的认识到了自主核心技术的重要性，对于这次南大光电成功量产了首个国产ArF光刻胶，解决了国产高端芯片材料短缺问题，各位小伙伴们，你们对此都有什么样的看法和意见呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！
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