近日，国内半导体产业又传出利好消息，光刻机工艺制造龙头企业——上海微电子技术公司已成功完成了22nm光刻机的研制工作。从技术角度来看，虽然该设备在工艺制程上与国际顶尖大厂荷兰ASML相比还是有一定差距，但从近几年国内光刻机整体研制进程来看，这是我国在光刻机领域所取得的一大突破。
近年来，在国家政策、资本的助力下，我国的半导体行业发展正逐步缩短与国外的差距，国产替代进程正在加速。
国产光刻机添新成就
光刻机是生产芯片的核心装备，它可以把掩模板上十分精细的图形，通过光线的曝光印制到硅片上，有点类似于冲洗照片，是半导体产业链中的重要一环。
光刻机的制造技术很复杂，全世界也仅有几家公司能制造，先进光刻机技术主要被ASML、佳能和尼康等公司掌握。据悉，目前，荷兰ASML的光刻机制程已经可以达到5nm水平。
此前我国主要依赖荷兰的ASML公司，国内厂商仅能生产90nm的光刻机，相比国际领先技术还有非常大差距。此次国产22nm光刻机的出现，让国内厂商在芯片代工领域内实现飞速发展。
据悉，上海微电子的22nm的光刻机，通过改良可以量产出10nm的芯片。这就意味着，一旦上海微电子技术公司的22nm光刻机到位，中国大陆规模最大的晶圆厂——中芯国际等厂商将很快就能量产12nm以及10nm的芯片。而中芯国际自身也有“N+1”、“N+2”技术，再加上22nm光刻机的助力，中芯国际通过技术攻关，未来量产7nm的芯片，也是指日可待。
国产替代浪潮下 半导体设备正崛起
事实上，上海微电子只是半导体设备厂商向前发展的一个缩影。在国产替代浪潮的携裹下，国产半导体设备厂商也正奋力寻求突破和成长。
近日，中科院长春光机所旗下长春光华微电子设备工程中心有限公司（光华微电子）宣布研制成功国内首台商用12英寸全自动晶圆探针台。此次研发成功的晶圆探针台产品，是半导体行业重要的检测装备之一，可将参数特性不符合要求的芯片记录下来，在进入后序工序前予以剔除，从而大幅度降低器件的制造成本。
探针台技术门槛较高，目前市场处于双强垄断态势，东京电子和东京精密两家日本公司占据了绝大部分市场份额。我国在探针台研制方面已有多年技术积累，产品以8英寸为主，光华微电子于2015年正式立项开展12英寸全自动探针台产品研发，先后突破了6项关键技术。今年，光华微电子推出的第一代产品机将在上海展出，并全面推向市场。
此外，由中国电子科技集团旗下电科装备自主研制的高能离子注入机成功实现百万电子伏特高能离子加速，性能达国际主流先进水平。
据悉，离子注入机是芯片制造中至关重要的核心关键装备。目前世界范围内以集成电路领域离子注入机为主要业务的公司共有6家，其中美国的Axcelis在高能离子注入机领域占据了近乎垄断地位。电科装备表示，将在2020年年底前推出首台高能离子注入机，实现我国芯片制造领域全系列离子注入机自主创新发展，并将为全球芯片制造企业提供离子注入机成套解决方案。
虽然现阶段全球半导体行业仍呈垄断局面，但在当前国产替代浪潮的推动下，我国半导体设备正逐步打破国外垄断，未来发展前景广阔，摆脱“卡脖子”情境指日可待。
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