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网易科技讯 2月10日晚间消息，英特尔总裁兼CEO欧德宁当日宣布，英特尔未来两年将投入70亿美元（约合人民币478亿元）升级其美国工厂生产技术，工厂将采用最先进的32纳米制造工艺。这也是英特尔历史上为单一制造工艺投入的最大一笔资金。
欧德宁表示，之所以选择在美国投资，目的是为了让英特尔与美国继续保持技术的领先，这些工厂将生产世界最先进的芯片，32纳米工厂生产的芯片将成为数字世界未来的基石，并带来远超行业水平的回报。
英特尔的投资将针对位于俄勒冈、亚利桑那和新墨西哥三州的现有工厂，预计可增加7000个左右的高收入、熟练工种岗位。虽然英特尔超过75%的销售收入是来自海外，不过约75%的芯片是在美国生产。同时公司约75%的研发费用及资本性支出都投入到美国。
采用32纳米工艺生产的第一款英特尔芯片是代号为“Westmere”的产品，将首先使用在主流台式机和移动设备中。“Westmere”芯片采用了英特尔最新的高性能微架构Nehalem，并集成了图像处理功能。因此，电脑生产商可提高产品的性能和简化生产过程。
英特尔将在今年开始提高“Westmere”芯片的产量，其他的32纳米芯片将在2010年推出。（木秀林）
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本文来源：网易科技报道
责任编辑：
王晓易_NE0011
