北京
10月9日，苏州工业园区企业普雨科技（苏州）有限公司（以下简称“普雨科技”）举办首台纳米压印光刻设备出货分享会。
普雨科技自主研发的纳米压印光刻设备ImprioVerse
据介绍，普雨科技自主研发的首台（套）纳米压印光刻设备ImprioVerse，已于2026年8月交付客户开展验证，取得国产纳米压印光刻设备工程化应用的重要突破。该设备将应用于化合物半导体光电子外延片的量产制造，覆盖光通信、激光传感、激光加工等微纳光电子器件的核心制程环节。
ImprioVerse是普雨科技针对纳米级结构的量产型压印设备，具有以下特点：可同时兼容2寸、3寸、4寸晶圆规格，支持硅、磷化铟、砷化镓等多种衬底材料；采用硬质模板整片压印方案，开发出精确的模板及晶圆形变控制系统，在保证成膜均匀性与图形精度的同时，有效延长模板使用寿命；采用喷涂方式涂布压印胶，省去了传统工艺中的旋涂及烘胶环节，大幅缩短工艺流程，同时喷胶图形及像素密度可编辑，为工艺调整提供更大自由度，可实现均匀的残胶厚度并最大限度地降低缺陷率；采用闭环控制的运动平台、压印平台及精密的套刻系统，实现高精度运动控制。
普雨科技成立于2024年7月，总部及研发中心设在苏州工业园区。该公司专注高速高分辨率半导体纳米压印光刻设备研发与制造，在高精度套刻、光刻精度、良率管控等关键技术领域拥有扎实的技术积累与丰富的量产经验，已形成从前沿技术研发到产业化落地的完整能力闭环，拥有各类专利30项。
据介绍，未来，普雨科技将继续坚持自主创新，持续打磨产品性能，加快推进设备的迭代优化与市场推广，积极推进核心零部件国产化替代，打造“设备—材料—工艺”全链条自主可控能力，在纳米压印赛道上持续突破，为半导体行业提供高性价比的纳米压印解决方案，助力我国高端装备突破技术瓶颈、实现高质量发展。
苏州工业园区供图
作者：吕依
编辑：王丹萍
审核：韩梦晨
监制：孙庆阳
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