北京
国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司申请一项名为“防反溅护罩、光刻胶涂覆装置及半导体加工设备”的专利，公开号CN122902171A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本申请提供一种防反溅护罩、光刻胶涂覆装置及半导体加工设备，涉及半导体加工技术领域。该防反溅护罩包括护罩本体和表面调控结构；护罩本体用于罩设在晶圆外侧，护罩本体具有用于朝向晶圆设置的内侧壁；表面调控结构，设置于内侧壁上，表面调控结构包括用于环设于晶圆外周侧的液滴接收区，液滴接收区配置为接收并滞留从晶圆表面飞溅的液滴。本申请的防反溅护罩、光刻胶涂覆装置及半导体加工设备，用以解决光刻工艺过程中液滴反溅的问题，保证光刻工艺的可靠性和良率。
天眼查资料显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目197次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息1164条，此外企业还拥有行政许可57个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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