北京
国家知识产权局信息显示，格科微电子（上海）有限公司申请一项名为“一种图像传感器及其制造工艺”的专利，公开号CN122892287A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本发明公开了一种图像传感器及其制造工艺，至少包含：提供一衬底，所述衬底上形成有像素区和外围的非成像区；在非成像区上方形成有一抗反射层，所述抗反射层覆盖于非成像区的顶部的至少部分区域；对抗反射层进行刻蚀，以将抗反射层表面随机粗糙化；其中，抗反射层的材料至少包含第一黑色吸光材料和第二黑色吸光材料，第一黑色吸光材料与第二黑色吸光材料的刻蚀速率不同。对刻蚀速率不同的黑色吸光材料进行刻蚀，通过刻蚀选择比将抗反射层进行表面随机粗糙化，大大降低特定方向至所有方向上的反射光强度，从根本上减少了进入像素区的杂散光，避免了光斑和重影的产生，提高了图像质量。
天眼查资料显示，格科微电子（上海）有限公司，成立于2003年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本9352.278万美元。通过天眼查大数据分析，格科微电子（上海）有限公司共对外投资了15家企业，参与招投标项目23次，财产线索方面有商标信息69条，专利信息1163条，此外企业还拥有行政许可48个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
