北京
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国家知识产权局信息显示，浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“激光退火的方法”的专利，公开号CN122892468A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，一种激光退火的方法，包括：提供晶圆；采用第一扫描轨迹对晶圆进行激光扫描，第一扫描轨迹包括多条沿第一方向排列的第一弧形轨迹；将晶圆绕其中心进行水平旋转处理；采用第二扫描轨迹对晶圆进行激光扫描，第二扫描轨迹包括多条沿第一方向排列的第二弧形轨迹。通过将晶圆旋转后进行第二次激光扫描，使得因第一弧形轨迹转折而在边缘形成的重复照射区域，在第二次激光扫描时转变为扫描起始区域，有效避免局部过热现象。第一扫描轨迹和扫描轨迹在空间上形成互补，第二扫描轨迹能够覆盖第一扫描轨迹的间隙区域，从而消除因光束截止效应造成的未照射盲区，实现晶圆表面的无冷点全覆盖。通过扫描轨迹的空间重分配使晶圆面内温度分布的一致性得到改善。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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