北京
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国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“一种晶圆清洗方法”的专利，公开号CN122871998A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明提供了一种晶圆清洗方法，包括：采用第一湿法清洗溶液对晶圆进行第一湿法清洗；采用第二湿法清洗溶液对晶圆进行第二湿法清洗；在第一湿法清洗与第二湿法清洗的步骤之间，晶圆清洗方法还包括：采用中间清洗溶液对晶圆进行第一中间清洗处理，第一中间清洗处理的转速低于第一湿法清洗和第二湿法清洗的转速以在晶圆的表面形成液膜，去除第一湿法清洗产生的带电聚合物。本发明可以将电弧缺陷的受损比例持续降低，对产品良率有很大提升。
天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2114次，专利信息2950条，此外企业还拥有行政许可552个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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