北京
国家知识产权局信息显示，合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“真空腔室的清洁方法、装置、光刻曝光机和程序产品”的专利，公开号CN122837114A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请适用于光刻技术领域，提供了一种真空腔室的清洁方法、清洁装置、光刻曝光机和程序产品。其中，所述真空腔室的清洁方法包括：响应于所述真空腔室开启，通过所述驱动模块，控制所述检测传感器沿所述滑轨移动，并获取所述检测传感器在移动过程中采集得到的传感器数据；基于所述传感器数据，对所述上盖上的碎屑进行检测，得到碎屑的位置信息；基于所述位置信息，确定所述喷气模块的控制参数；基于所述控制参数，通过所述驱动模块，控制所述喷气模块沿所述滑轨移动至目标位置执行喷气操作。本申请的实施例可以实时进行真空腔室的自清洁，提高光刻曝光机的稼动率，降低损坏设备的风险。
天眼查资料显示，合肥维信诺科技有限公司，成立于2018年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目999次，专利信息4699条，此外企业还拥有行政许可43个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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