国家知识产权局信息显示,合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“真空腔室的清洁方法、装置、光刻曝光机和程序产品”的专利,公开号CN122837114A,申请日期为2025年3月。
专利摘要显示,本申请适用于光刻技术领域,提供了一种真空腔室的清洁方法、清洁装置、光刻曝光机和程序产品。其中,所述真空腔室的清洁方法包括:响应于所述真空腔室开启,通过所述驱动模块,控制所述检测传感器沿所述滑轨移动,并获取所述检测传感器在移动过程中采集得到的传感器数据;基于所述传感器数据,对所述上盖上的碎屑进行检测,得到碎屑的位置信息;基于所述位置信息,确定所述喷气模块的控制参数;基于所述控制参数,通过所述驱动模块,控制所述喷气模块沿所述滑轨移动至目标位置执行喷气操作。本申请的实施例可以实时进行真空腔室的自清洁,提高光刻曝光机的稼动率,降低损坏设备的风险。
天眼查资料显示,合肥维信诺科技有限公司,成立于2018年,位于合肥市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析,合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目999次,专利信息4699条,此外企业还拥有行政许可43个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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