北京
分享至
国家知识产权局信息显示，长春理工大学、长春理工大学中山研究院、中山高氢动力科技有限公司申请一项名为“一种GDC隔离层及其制备方法和应用”的专利，公开号CN122843440A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明公开了一种GDC隔离层及其制备方法和应用；该方法包括如下步骤：S1、将GDC粉体和溶剂I混合球磨得到浆料I；将碱金属碳酸盐和溶剂II混合球磨得到浆料II；S2、将所述浆料I在基板上进行丝网印刷I，干燥得到生坯层；S3、再将所述浆料II在所述生坯层的表面进行丝网印刷II，干燥；再进行烧结即得。本发明先通过丝网印刷GDC基体层，再印刷碱金属碳酸盐层，采用的独立助剂层策略，避免了将烧结助剂直接掺杂或混合入GDC晶格内部可能引入的额外电阻。该方法能够有效降低烧结温度又不会增加GDC隔离层的欧姆电阻。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
