北京
国家知识产权局信息显示，无锡兴华衡辉科技有限公司申请一项名为“一种光刻板保护清洁及高效光刻曝光的方法”的专利，公开号CN122815797A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本发明公开了一种光刻板保护清洁及高效光刻曝光的方法，属于半导体制造与光刻工艺技术领域。该方法包括：对光刻板表面进行亲水化预处理得到表面活化层；在活化层上涂覆聚乙烯醇水溶液并加热烘干形成聚乙烯醇固态透明膜层；在该膜层上旋涂光刻胶并进行光刻曝光；显影后采用加压纯水沿光刻板法线方向冲击剥离聚乙烯醇固态透明膜层；通过检测剥离后光刻板表面残余物分布密度，判定是否执行二次成膜循环。该方案以水溶性牺牲膜实现无损剥离清洁，并利用残余物分布密度反馈触发二次成膜循环，兼顾了光刻板清洁度与曝光作业效率。
天眼查资料显示，无锡兴华衡辉科技有限公司，成立于2020年，位于无锡市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1880.7075万人民币。通过天眼查大数据分析，无锡兴华衡辉科技有限公司参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息57条，此外企业还拥有行政许可19个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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