北京
国家知识产权局信息显示，中山凯旋真空科技股份有限公司申请一项名为“一种金属件及其制备方法和应用”的专利，公开号CN122687206A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明提供了一种金属件及其制备方法和应用，属于金属表面处理领域。所述金属件，包括基体，所述基体表面具有阳极氧化层，所述阳极氧化层表面设有封孔层，所述封孔层为物理气相沉积层。通过引入物理气相沉积层作为封孔层，将金属件基体表面的阳极氧化层上的各类孔、隙、凹坑进行填充、封闭、覆盖，而且物理气相沉积封孔层设置所需能耗低、环境友好，且避免引入过量金属离子残余，能更好地满足半导体、新型显示等技术领域要求。
天眼查资料显示，中山凯旋真空科技股份有限公司，成立于1998年，位于中山市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3589.2199万人民币。通过天眼查大数据分析，中山凯旋真空科技股份有限公司参与招投标项目481次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息408条，此外企业还拥有行政许可67个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
