北京
国家知识产权局信息显示，赛思瑞克（成都）母线槽有限公司申请一项名为“母线槽用耐候性聚酰亚胺绝缘薄膜共混改性制备方法”的专利，公开号CN122685929A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本发明涉及绝缘薄膜材料制备技术领域，公开了母线槽用耐候性聚酰亚胺绝缘薄膜共混改性制备方法。该方法包括：将芳香族二酐单体和芳香族二胺单体在非质子极性溶剂中进行缩聚反应生成聚酰胺酸溶液；向该溶液中加入含氟烷基硅烷低聚物和纳米二氧化钛分散液进行机械剪切共混，获得改性聚酰胺酸共混液；将该共混液流延成膜后在惰性气氛保护下进行阶梯式升温亚胺化处理，得到共混改性聚酰亚胺薄膜。本发明通过含氟烷基硅烷低聚物的偶联与修饰作用，实现了纳米二氧化钛在聚酰亚胺基体中的稳定分散，同时引入含氟疏水组分和紫外屏蔽功能填料，使薄膜的耐紫外老化性能和表面疏水特性得到协同改善，制备工艺简洁高效，适于母线槽用绝缘薄膜的规模化生产。
天眼查资料显示，赛思瑞克（成都）母线槽有限公司，成立于2022年，位于成都市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，赛思瑞克（成都）母线槽有限公司财产线索方面有商标信息2条，专利信息21条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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