北京
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国家知识产权局信息显示，朗姆研究公司申请一项名为“抗反射(AR)和高反射(HR)层的背侧沉积”的专利，公开号CN122680892A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，一种处理衬底的装置，其包括：反应室；位于反应室中的衬底支撑件，其被配置成在所述衬底的周边处或附近支撑所述衬底，使得所述衬底的前侧上的有源区域不接触所述反应室的任何部分，并使得所述衬底的背侧基本暴露；以及控制器，其能控制地配置成：在所述衬底的所述背侧上沉积牺牲层；在所述衬底的所述背侧上沉积抗反射层和反射层中的至少一者；以及在所述衬底的所述前侧上沉积堆叠件。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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