北京
国家知识产权局信息显示，上海磐矽半导体技术有限公司申请一项名为“用于制备光学感测装置的方法和光学感测装置”的专利，公开号CN122679712A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本公开涉及一种用于制备光学感测装置的方法和光学感测装置。其中，用于制备光学感测装置的方法包括：提供光学感测预制件；在光学感测预制件的第一侧上形成光过滤层，其中，光过滤层包括多个遮光部，其中，多个遮光部中的每个遮光部的在光学感测层中的投影位于像素区中的相应像素之间；以及在光学感测预制件的第一侧上形成微透镜层，其中，微透镜层包括多个微透镜，多个微透镜中的每个微透镜的在光学感测层中的投影与像素区中的相应像素至少部分地重叠，且与至少一个微透镜相邻的至少一个遮光部的顶表面相对于该微透镜的底表面朝向第一侧凸出。
天眼查资料显示，上海磐矽半导体技术有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本4500万人民币。通过天眼查大数据分析，上海磐矽半导体技术有限公司共对外投资了1家企业，专利信息5条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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