北京
国家知识产权局信息显示，上海车仪田科技有限公司申请一项名为“原子层刻蚀控制系统、方法、存储介质及刻蚀设备”的专利，公开号CN122662595A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体检测技术领域，公开了一种原子层刻蚀控制系统、方法、存储介质及刻蚀设备，系统包括刻蚀模块、检测模块、反馈调节模块和控制模块；刻蚀模块包括反应腔室及静电卡盘、偏压供电单元、等离子体发生单元、气体注入系统和抽气系统；检测模块包括设置于反应腔室内不同空间位置的多个采样单元、红外光谱分析单元及温度与压力反演单元，用于从不同空间位置抽取气样并分析，以确定各采样单元对应位置处的气体浓度、温度及压力并生成空间分布信息；反馈调节模块根据空间分布信息生成工艺调节指令；控制模块输出指令驱动执行器。本发明能够实时感知反应腔室内部的浓度空间分布差异并分区补偿，将晶圆内刻蚀均匀性控制在原子层级别。
天眼查资料显示，上海车仪田科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本319.4745万人民币。通过天眼查大数据分析，上海车仪田科技有限公司共对外投资了3家企业，财产线索方面有商标信息2条，专利信息137条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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