北京
国家知识产权局信息显示，上海纽迈电子科技有限公司申请一项名为“实现MRI径向成像的抗涡流方法、装置、处理器及其计算机可读存储介质”的专利，公开号CN122652428A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明涉及一种实现MRI径向成像的抗涡流方法，包括以下步骤：在每一个重复时间内，确定径向采样的一径向方向角，并按照该方向施加平面内读出梯度，计算得到平面内读出梯度的目标幅值；先执行梯度爬升；执行梯度稳定时间，保持梯度恒定不变；施加射频脉冲，并在自旋回波中心附近开启ADC采样窗口进行信号采集，在采集期间保持平面内读出梯度恒定为目标幅值。采用了本发明的实现MRI径向成像的抗涡流方法、装置、处理器及其计算机可读存储介质，能提高时间利用效率并缩短回波时间TE，通过减少梯度爬坡过程所占用的时间，并使ADC采样窗口更靠近回波中心，提高有效采样时间占比，实现更短的最小回波时间TE，提升检测能力。
天眼查资料显示，上海纽迈电子科技有限公司，成立于2003年，位于上海市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，上海纽迈电子科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目50次，专利信息43条，此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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