北京
国家知识产权局信息显示，浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“掩膜图案生成方法及相关设备”的专利，公开号CN122652883A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本公开提供一种掩膜图案生成方法及相关设备，方法包括：将待处理版图输入至图像处理模型，生成初始掩膜图案；执行至少两次梯度修正处理，得到中间掩膜图案；每次所述梯度修正处理包括：确定当前掩膜图案的梯度信息，基于所述梯度信息，对所述当前掩膜图案进行修正，得到当前修正掩膜图案；其中，首次梯度修正处理的当前掩膜图案为所述初始掩膜图案，非首次梯度修正处理的当前掩膜图案为前一次得到的当前修正掩膜图案；对所述中间掩膜图案进行阈值分割处理，得到目标掩膜图案。采用上述技术方案，能够提高晶圆成像轮廓与待处理版图的一致性，提升目标掩膜的精度。
天眼查资料显示，浙江创芯集成电路有限公司，成立于2020年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本214766.6666万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江创芯集成电路有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目294次，财产线索方面有商标信息21条，专利信息678条，此外企业还拥有行政许可7个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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