北京
苏大维格（300331）披露2026年半年度报告。报告期内，公司上半年研发投入达8819.19万元，同比增长15.56%，占营业收入比例8.52%。过去五年，公司研发投入复合增长率为7.94%。
制图：金融界上市公司研究院；数据来源：巨灵财经
财报显示，公司以自主研发微纳光学关键制造设备为核心，持续迭代激光直写光刻机与纳米压印光刻机，并基于该平台体系开发微纳光学产品。上半年，公司直写光刻设备重点拓展半导体掩模制造及先进封装领域应用，相关样机已开发；子公司维普半导体的光掩模缺陷检测设备和晶圆缺陷检测设备属于半导体量检测核心设备，技术、产品和核心算法系正向自研开发。研发投入变化背后，公司围绕微纳制造技术平台，有序推进虚实融合透明显示、光栅及光栅尺、VR/AR、AR-HUD、光场屏、光子芯片、光通信器件等超精密微纳光学器件的商业化应用与产业化投资。
半年报信息显示，该公司是一家国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，通过自主研发微纳光学关键制造设备，建立了微纳光学研发与生产制造的基础技术平台体系，为客户提供不同用途微纳光学产品的设计、开发与制造服务。公司已形成公共安全和新型3D印材、消费电子新材料、高端智能装备、反光材料四大事业群，产品涵盖公共安全防伪膜、镭射膜、导光材料、柔性透明导电膜、中大尺寸电容触控模组、半导体量检测设备及激光直写光刻设备等。
2026年上半年，公司实现营业总收入10.35亿元，同比增长5.39%；归母净利润0.50亿元，同比增长62.29%；扣非净利润0.42亿元，同比增长222.54%；经营活动产生的现金流量净额为0.54亿元，同比下滑19.59%。
市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于巨灵数据内容生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：智研
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
