北京
国家知识产权局信息显示，西尔弗雷有限公司申请一项名为“电离辐射检测器设备的改进或相关改进”的专利，公开号CN122642149A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，一种电离辐射检测器设备（1），包括：具有多个基板层的层叠体（2），其包括：第一基板层（4），包括：像素层，其包括从电离辐射转换层提取电荷的一个或多个或者多个像素，像素层能将提取的电荷转换为与电离辐射转换层的电离辐射暴露成比例的电信号；以及第一电压偏置接触件（4a），用于向像素层供应电压；第二基板层（5），包括电离辐射转换层，用于将入射电离辐射直接转换为电荷载流子；以及第三基板层（6），包括：金属化层；以及第二电压偏置接触件（6a），用于向金属化层供应电压。第二基板层（5）直接被沉积或作为涂敷层施加在第一基板层（4）上。设备（1）包括电连接装置（3a），可操作地连接至：第一电压偏置接触件（4a）和第二电压偏置接触件（6a），用于连接电源；以及像素层（4），用于将电信号传递至处理、调节和/或传送电信号的装置和/或读取或显示装置。优选地，电离辐射检测器设备(1)、层叠体(2)和/或电连接装置(3)是可弯曲和/或柔性的。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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