北京
国家知识产权局信息显示，杭州欣俊哲微纳科技有限公司申请一项名为“一种双面曝光机”的专利，公开号CN122613664A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明提供了一种双面曝光机，涉及印制电路板制造领域。曝光台面具有滑动支架以及盛放支架，移动架与滑动支架滑动连接，移动架包括依次连接的第一安装部、连接部以及第二安装部，第一安装部与第二安装部分别位于待曝光基板的相对两侧，连接部的两端分别与第一安装部、第二安装部固定连接；上曝光源设置在第一安装部上，且与第一安装部连接；下曝光源设置在第二安装部上，且与第二安装部连接；第一驱动件与移动架传动连接，用于带动上曝光源以及下曝光源同步沿第一方向运动，以实现对待曝光基板的曝光。本发明提供的双面曝光机消除上曝光源、下曝光源之间的异步误差，保证了上曝光源与下曝光源轨迹的高度一致性，两面光照区域始终精确对齐。
天眼查资料显示，杭州欣俊哲微纳科技有限公司，成立于2024年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2220万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州欣俊哲微纳科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息2条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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