北京
国家知识产权局信息显示，寿光懋隆新材料技术开发有限公司申请一项名为“HIsmelt熔融还原高纯生铁用脱模剂、高纯生铁的浇铸方法和浇铸模具”的专利，公开号CN122583517A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本公开涉及铸铁技术领域，提供了一种HIsmelt熔融还原高纯生铁用脱模剂、一种高纯生铁的浇铸方法和一种HIsmelt熔融还原高纯生铁用浇注模具，其中，用于HIsmelt熔融还原高纯生铁用脱膜剂，以质量百分比计，包括以下组分：二氧化硅 35~45%，三氧化二铝 15~30%，润滑剂 8~20%，氧化钙 5~10%，悬浮稳定剂 0.5~2%，水余量；所述润滑剂包括石墨和六方氮化硼中的一种或两种。本公开提供的脱模剂彻底消除了高纯生铁的白斑缺陷，显著抑制了氧化发红的问题，且脱模性能优良。
天眼查资料显示，寿光懋隆新材料技术开发有限公司，成立于2000年，位于潍坊市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本111238万人民币。通过天眼查大数据分析，寿光懋隆新材料技术开发有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目24次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息150条，此外企业还拥有行政许可15个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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