北京
国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“套刻标记结构及套刻测量方法”的专利，公开号CN122592755A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明提供一种套刻标记结构及套刻测量方法。该套刻标记结构包括前层标记以及当层标记；前层标记包括对称设置的前层图案；当层标记包括当层图案，当层图案设置在前层图案中间。本发明还公开了相应的测量方法，通过获取光学图像并提取位置信息来计算套刻误差。本发明将当层图案放置于对称的前层图案中间，能够平衡测量时接收的光学信号，避免单侧图案分布不均带来的畸变，提升信号采集准确度与对称性。通过相同焦平面设计单次成像，缩短了量测时间，提高了测量精度与机台产率。
天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2102次，专利信息2884条，此外企业还拥有行政许可550个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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