陕西
迄今为止，ASML依旧站在全球半导体产业链最顶尖的位置，妥妥的全球巨头，无可替代。
过去30年间，ASML真正做到了一家独大，全球光刻机市场ASML占据80%以上，EUV光刻机独占100%，放眼世界，没有一个竞争对手。在它面前，所有不可一世的晶圆厂都得俯首称臣，三星也好，台积电也罢，没有ASML啥也不是。它的EUV光刻机是唯一一个可以制造3nm以上先进制程的光刻设备，没有它，就没有今天的3nm芯片。正因如此，ASML在过去非常强势，不仅垄断技术和标准，还掌握价格的话语权，它定价多少就卖多少，爱要不要。
直到现在ASML依然强得可怕，先看看它的成绩单：2025年，全年卖出了48台EUV系统、279台DUV系统以及208台量测与检测设备。实现净销售额327亿欧元，毛净利润96亿欧元，研发投入达到47亿欧元。
ASML拥有数十年的技术积累,庞大的研发预算、全球供应商体系，以及台积电、三星、英特尔等客户长期共同开发形成的工艺生态，一时间真的无可撼动。
转机出现在2024年，迫于美国压力，ASML向中国客户发出通知：从2024年起不再交付光刻设备。美国限制中国获得先进半导体设备，本意是限制中国先进芯片制造能力。但问题在于，中国正在发生一件过去很多人没有想到的事情：开始从DUV开始一点点替代ASML，采用全新的技术路线，制造先进制程芯片。
ASML正在失去一个重要市，同时又在这个市场培养潜在竞争者，你越不让我买，我就越有动力自己造。一台设备不行，就改一代。一代不行，就继续改。今天可能只能做成熟制程，明天可能做到28nm，后天可能进入更先进节点。
如果中国完全按照ASML过去几十年的路线，从光源、反射镜、掩模、物镜、工件台到控制系统，一个零件一个零件全部复制，确实需要漫长时间。但中国企业和科研机构正在尝试的，并不只有这一条路线。国内已经出现了浸没式DUV、电子束、EUV光源以及其他新型光刻技术方向的探索。与此同时，电子束直写、纳米压印、先进计算光刻等路线，也一直在全球科研体系中推进。其中一些技术距离先进逻辑芯片大规模量产还有很长距离，但是已经说明未来光刻技术并不一定永远只有ASML这一条路。
一旦突破了某一项技术，原有的格局就会被改写，ASML的巨头地位恐将不保，甚至陷入生存危机。
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