北京
国家知识产权局信息显示，苏州德耐纳米科技有限公司申请一项名为“一种用于基片双面镀膜的翻转式真空镀膜设备”的专利，公开号CN122564487A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明涉及真空镀膜机技术领域，具体公开了一种用于基片双面镀膜的翻转式真空镀膜设备，包括：真空镀膜箱；承载架组，设置于真空镀膜箱的箱体内，所述承载架组包括多个呈圆周阵列分布的第一立杆，所述第一立杆顶端和底端分别设置有支撑板；悬挂架组，转动设置于承载架内，所述悬挂架组包括多个呈阵列分布的第二立杆，所述第二立杆顶端和底端分别设置有环板，两个所述环板与相邻的支撑板呈滑动导向配合连接；弹性夹持组件，设置于悬挂架组内，用于固定基片。本发明实现了基片的快速取放与柔性固定，避免了刚性夹持对基片边缘造成的损伤，实现了基片在真空保持下的自动翻转，提高了镀膜效率和膜层质量。
天眼查资料显示，苏州德耐纳米科技有限公司，成立于2017年，位于苏州市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州德耐纳米科技有限公司共对外投资了1家企业，财产线索方面有商标信息6条，专利信息40条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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