北京
国家知识产权局信息显示，山西中电科电子装备有限公司取得一项名为“一种CVD涂层装备用低温反应器”的专利，授权公告号CN224628953U，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种CVD涂层装备用低温反应器，涉及真空涂层装备技术领域；包括低温反应器罐体、低温反应器上锥盖、低温反应仓、铝颗粒坩埚组件、进料仓组件、用于通入反应气体的预热盘管、反应仓电阻丝和预热盘管电阻丝；进料仓组件包括进料管路、进料仓、进料仓顶盖；预热盘管位于低温反应器罐体内且位于低温反应仓下方；预热盘管出气端从低温反应仓伸入，预热盘管进气端伸出低温反应器罐体并与质量流量控制器相连接；反应仓电阻丝设置在低温反应仓外侧；预热盘管电阻丝设置在预热盘管外侧；本实用新型解决了低温反应器内部温度均匀性差，反应效率低的问题。
天眼查资料显示，山西中电科电子装备有限公司，成立于2010年，位于太原市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本39040万人民币。通过天眼查大数据分析，山西中电科电子装备有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目87次，专利信息199条，此外企业还拥有行政许可9个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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