北京
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国家知识产权局信息显示，科磊股份有限公司申请一项名为“真空紫外光镜”的专利，公开号CN122580592A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本发明公开一种用于反射真空紫外光的镜。所述VUV镜可包含衬底。所述VUV镜可包含沉积于所述衬底上的反射层，其中所述反射层反射100 nm到200 nm之间的波长的光。所述VUV镜可包含沉积于所述反射层上的贵金属层，其中所述贵金属层为所述反射层提供环境稳定性，且透射100 nm到200 nm之间的波长的光。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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