国家知识产权局信息显示,上海原子启智半导体设备有限公司申请一项名为“一种等离子体处理设备及衬底处理方法”的专利,公开号CN122552421A,申请日期为2026年6月。
专利摘要显示,本发明公开了一种等离子体处理设备及基于自由基的衬底处理方法,属于半导体制造技术领域。本发明的等离子体处理设备包括反应腔、基座、源射频、射频线圈、辐射热源和控制器,射频线圈包括边缘线圈和中心线圈,辐射热源至少部分位于边缘线圈与中心线圈之间的间隔区域,介电窗设有与辐射热源对应的透明部;控制器在基于自由基处理工艺的第一工艺中,控制辐射热源透过透明部直接照射衬底进行控温。本发明实现了在基于自由基处理的反应腔中对衬底的直接、高效、精准控温,有效改善了衬底温度均匀性,提高了控温响应速度和工艺效率与良率。
天眼查资料显示,上海原子启智半导体设备有限公司,成立于2025年,位于上海市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1493.1645万人民币。通过天眼查大数据分析,上海原子启智半导体设备有限公司财产线索方面有商标信息4条,专利信息27条,此外企业还拥有行政许可7个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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