北京
7月30日，湖南普照信息材料有限公司（以下简称“普照材料”）自主研发的国内首张第8.5代高精度掩模基板（尺寸1220*1400mm）正式下线。
普照材料表示，平板显示大尺寸掩模基板对大面积均匀性、低缺陷密度等关键指标要求极为严苛，技术壁垒高、攻关难度大。
本次下线的产品主要面向平板显示大尺寸光掩模核心应用领域，产品性能对标行业高端标准，可有效满足下游平板显示产业对核心材料的迫切需求。该产品与公司即将投产的半导体掩模基板形成双赛道协同布局，进一步完善了企业产品矩阵，强化了在高端掩模基板领域的核心竞争力。
普照材料指出，这一成果成功填补国内掩模基板领域技术空白，破解了平板显示产业链核心材料“卡脖子”难题，为我国平板显示大尺寸光掩模产业高质量发展注入新动能。
资料显示，普照材料成立于2003年，专注于掩膜基版材料（匀胶铬版）研发、生产与销售。公司已建成能够生产覆盖75mm×75mm至700mm×800mm多规格的溅射匀胶铬版生产线，产品广泛应用于新型平板显示器件、集成电路、精细光学、线路板、微纳加工及激光防伪等领域的光掩膜制作。
来源：普照材料
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