北京
分享至
国家知识产权局信息显示，浙江景昇薄膜科技有限公司申请一项名为“减少薄膜缺陷数量的电致变色组件及其制备方法和电子器件”的专利，公开号CN122488410A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明提供一种减少薄膜缺陷数量的电致变色组件及其制备方法和电子器件，所述电致变色组件包括依次叠层设置的基底层、第一透明导电层、电致变色层、离子导通层、离子存储层、锂层、绝缘缓冲层和第二透明导电层。本发明能够减少薄膜缺陷数量，避免膜层发生短路，并改善产品外观及电致变色性质，应用前景广阔。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
