北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“用于等离子体处理的模拟电路滤波器中的空芯线圈”的专利，公开号CN122498018A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，一种系统包括处理腔室，所述处理腔室被配置成相对于一个或多个基板执行等离子体工艺。所述系统进一步包括安置在处理腔室内的静电卡盘。静电卡盘包括一个或多个电极。所述系统进一步包括电耦合到一个或多个电极中的至少一个电极的模拟滤波器。模拟滤波器包括空芯线圈，所述空芯线圈包括第一线圈和安置在第一线圈内的第二线圈。第一线圈和第二线圈一起形成电感器。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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