北京
国家知识产权局信息显示，江西兆驰半导体有限公司申请一项名为“图形化蓝宝石衬底及其制备方法、发光二极管外延片”的专利，公开号CN122476744A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明公开了一种图形化蓝宝石衬底及其制备方法、发光二极管外延片，涉及半导体光电器件领域。其中，图形化蓝宝石衬底的制备方法包括：在蓝宝石衬底的第一表面上形成周期性分布的凸起结构；其中，相邻凸起结构之间设有预设距离，以形成平面区域；在所述凸起结构以及所述平面区域上形成介质层；其中，所述介质层的折射率小于所述蓝宝石衬底的折射率；在所述介质层的顶部形成暴露所述凸起结构的孔洞；其中，所述孔洞沿所述蓝宝石衬底的厚度方向向所述凸起结构延伸预设深度，以在凸起结构的顶部形成暴露所述蓝宝石衬底的C面的成核面。实施本发明，可提升发光二极管的光提取效率和发光效率。
天眼查资料显示，江西兆驰半导体有限公司，成立于2017年，位于南昌市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本160000万人民币。通过天眼查大数据分析，江西兆驰半导体有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目20次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息1711条，此外企业还拥有行政许可62个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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