北京
国家知识产权局信息显示，沈阳梅特科航空科技有限公司取得一项名为“电子束物理气相沉积用靶材盛放坩埚”的专利，授权公告号CN224564674U，申请日期为2025年6月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种电子束物理气相沉积用靶材盛放坩埚，属于电子束物理气相沉积技术领域。该坩埚包括坩埚本体和盖板，其中：所述坩埚本体为具有双层侧壁的圆筒状结构，包括外侧壁和内侧壁，外侧壁和内侧壁之间的空间为水路；所述坩埚本体的下端面连接所述盖板，所述盖板上设有外部进水管和外部出水管；所述水路中设有内部出水管，所述内部出水管与所述外部出水管相连通，所述外部进水管与水路相连通。该坩埚解决了现有的电子束物理气相沉积蒸发时靶材熔化导致的液滴喷溅和靶材碎裂，蒸发速率不稳定、叶片沉积涂层不均匀等。
天眼查资料显示，沈阳梅特科航空科技有限公司，成立于2015年，位于沈阳市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1111.1111万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳梅特科航空科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目21次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息19条，此外企业还拥有行政许可14个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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