北京
国家知识产权局信息显示，中国一冶集团有限公司申请一项名为“地铁隧道上方通廊基坑支护结构及其施工方法”的专利，公开号CN122466854A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本申请提供一种地铁隧道上方通廊基坑支护结构及其施工方法，涉及地下工程施工领域，支护结构包括地下连续墙单元槽段、槽段钢筋笼和多个格构式钢板箱单元，多个格构式钢板箱单元嵌设于槽段钢筋笼中与通廊贯通位置对应的区域并形成预留洞口区，相邻格构式钢板箱单元之间形成竖向导管浇筑通道。施工时，先形成含有预留洞口区的地下连续墙单元槽段，再对通廊底板以下土体进行满堂地基加固，对通廊底板以上土体进行抽条地基加固，并按施工分区和施工步序进行土方开挖、底板施工及压载，最后切割打开预留洞口区形成通廊贯通口。本申请能够降低地下连续墙后期贯通施工扰动，并控制通廊基坑开挖引起的地铁隧道隆起变形。
天眼查资料显示，中国一冶集团有限公司，成立于1990年，位于武汉市，是一家以从事有色金属冶炼和压延加工业为主的企业。企业注册资本241772.739016万人民币。通过天眼查大数据分析，中国一冶集团有限公司共对外投资了133家企业，参与招投标项目63265次，财产线索方面有商标信息182条，专利信息6823条，此外企业还拥有行政许可912个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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