EUV光刻机背后的低调王者

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蔡司半导体制造技术公司（Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology，简称ASML）已确认，将在德国南部奥伯科亨（Oberkochen）新增约25,000平方米的生产及周边空间。该项目于2022年破土动工，历时四年，首栋竣工建筑已于本月投入使用。其余建筑将分阶段交付。

奥伯科亨和韦茨拉尔（Wetzlar）是全球仅有的两个能够生产ASML光刻扫描仪内部光学柱的地点。ASML的年度报告指出，其系统产量受限于蔡司SMT的产能。ASML本月早些时候告知投资者，计划在2027年将低数值孔径（Low-NA）极紫外光刻（EUV）的产量提高约30%。

ASML 2025 年年度报告指出，卡尔蔡司 SMT 是其镜头、反射镜、照明器、集光器和其他关键光学元件的唯一供应商，双方签订了独家供应协议。报告警告称，如果蔡司无法长期维持生产，ASML“将实际上无法继续开展业务”。2025 年，ASML 从蔡司 SMT 及其子公司的采购额达到 44.1 亿欧元，高于 2024 年的 39.5 亿欧元和 2023 年的 33.3 亿欧元。（1 欧元 = 1.14 美元）

ASML首席财务官罗杰·达森在7月份的财报电话会议上表示，公司2027年的低数值孔径EUV光刻机订单已接近饱和，计划在今年约65台系统的基础上增产约30%，并正在评估2028年再次增产30%的可能性。他当天还告诉记者，公司正在将扫描仪的生产周期从约22周缩短至15或16周。据悉，ASML计划提高低数值孔径EUV光刻机的价格，此举据称引起了台积电的不满。

高数值孔径投影光学系统包含超过4万个零件，重约12吨，体积和重量约为标准极紫外光学系统的七倍。照明系统又增加了2.5万个零件，重达6吨。单个高数值孔径反射镜重达数百公斤，体积约为现有极紫外反射镜的两倍，重量约为其十倍。蔡司公司表示，这些反射镜需要数月时间加工才能达到所需尺寸。验证这些反射镜需要一个5米×10米的专用真空室，该真空室由超过10万个零件组成，重量超过150吨。本月，英特尔成为首家在0.55数值孔径扫描仪上实现大批量逻辑电路交付的公司。增加占地面积并不会缩短任何步骤。

截至2025年底，ASML持有蔡司SMT应收贷款19.1亿欧元，高于上年同期的14.4亿欧元；此外，ASML还预付了11.9亿欧元用于确保光学柱的交付。ASML已与蔡司SMT签署了两笔10亿欧元的贷款协议，分别于2021年9月和2024年9月签署。ASML还在2025年7月发放了4.44亿欧元贷款，并于同年11月发放了2.125亿欧元短期贷款。2025年5月，ASML对其框架协议进行了修订，将资本支出贷款改为免息贷款，还款期限预计为7年或15年，按季度分期付款，具体金额取决于蔡司SMT的收入。

蔡司SMT业务在截至2025年9月30日的财年实现营收50.55亿欧元，同比增长23%，是蔡司集团四大业务板块中营收最高的。此外，蔡司还在韦茨拉尔建设一座多功能工厂，去年秋季在罗斯多夫新增了300平方米的洁净室，并于本月在韩国开设了一家创新中心。

EUV的真正老大

在全球半导体产业的激烈竞逐中，ASML 生产的极紫外光（EUV）微影机，始终是技术制高点。然而，这项尖端设备的核心组件，却是由德国光学巨擘蔡司（Zeiss）独家供应的高精度镜组，这使得蔡司在美国试图遏制中国半导体发展的战略中，成为了一个不可忽视的关键节点。

蔡司技术长史塔姆勒（Thomas Stammler）曾公开指出，全球约有八成的芯片采用了蔡司的光学元件制造。

蔡司半导体制造光学部门与ASML 的长期合作，早在浸润式深紫外光（DUV）微影机时代就奠定了基础。凭借这项技术，两家公司击败了日系的尼康（Nikon）和佳能（Canon），共同成为了微影设备市场的龙头，并成功延续了摩尔定律。

无论是用于驱动汽车、手机、家电或工业设备的芯片，从成熟制程到最尖端制程，蔡司的镜头组件都是ASML 微影设备中不可或缺的独家核心。

蔡司的工艺水准达到了令人难以置信的程度。据悉，如果将制造光刻机的镜组等比例放大到德国国土的面积，其平整度误差仍能维持在0.1 毫米之内。蔡司副总裁Frank Rohmund 透露，他们已累积了超过1,500 项与EUV 相关的技术专利。

这道由专利和精密工艺筑成的技术高墙，使任何其他企业想绕过蔡司自行制造EUV 微影机的镜组，几乎是微乎其微的希望。即使侥幸绕开部分专利，也难以达到蔡司产品的顶级技术水准，进而无法用于先进芯片的量产。

EUV 微影技术的研发历史已超过二十年，其成功不仅是单一公司的成就，更是全球化合作的典范。蔡司与ASML 的背后，有美国资本、德国政府以及欧盟等多元势力的共同支持。其庞大的供应链涵盖了全球超过1,200 家供应商，凸显了全球分工与顶级资源整合才是光刻机和芯片产业的核心发展模式。

此外，为了确保极致的制造品质，蔡司为其核心元件制造建立了独立的高洁净工厂。普通室内空气中每立方公尺约有上亿个悬浮微粒，而蔡司的洁净室能将灰尘数量大幅减少至3,500 个左右，并配备空气过滤和净化装置，确保设备运作的绝对精确度。

蔡司半导体部门拥有超过7,500 名专业员工，其中约1,500 人投入最新的High NA-EUV 微影机研发。其人才来自全球各地，涵盖了配镜师、机械工程师、机电整合工程师等顶尖人才。这种深度绑定的人才体系和企业文化，为蔡司创造了难以模仿的竞争优势。

面对国际间的地缘政治角力，过去曾仰赖全球化供应链的中国及其他地区，如今正被迫思考自主研发和国产化的道路。

虽然台湾在光学元件领域发展较早，例如早在1950 年代就有相机厂制造国产相机的初步经验，但要达到微影机核心镜组所需的极致精度，仍是巨大挑战。然而，台湾光学厂商如大立光、玉晶光等，正持续在手机镜头、显微镜、医疗设备等领域进行自主技术猛攻，这与蔡司早年的发展路径不谋而合。

精密元件的制造是确保半导体产业自主性必须面对的核心问题，唯有在全球化合作与自主技术研发两条腿走路，才能在未来的科技竞争中立于不败之地。

在全球半导体产业的激烈竞逐中，ASML 生产的极紫外光（EUV）微影机，始终是技术制高点。然而，这项尖端设备的核心组件，却是由德国光学巨擘蔡司（Zeiss）独家供应的高精度镜组，这使得蔡司在美国试图遏制中国半导体发展的战略中，成为了一个不可忽视的关键节点。

蔡司技术长史塔姆勒（Thomas Stammler）曾公开指出，全球约有八成的芯片采用了蔡司的光学元件制造。

蔡司半导体制造光学部门与ASML 的长期合作，早在浸润式深紫外光（DUV）微影机时代就奠定了基础。凭借这项技术，两家公司击败了日系的尼康（Nikon）和佳能（Canon），共同成为了微影设备市场的龙头，并成功延续了摩尔定律。

无论是用于驱动汽车、手机、家电或工业设备的芯片，从成熟制程到最尖端制程，蔡司的镜头组件都是ASML 微影设备中不可或缺的独家核心。

蔡司的工艺水准达到了令人难以置信的程度。据悉，如果将制造光刻机的镜组等比例放大到德国国土的面积，其平整度误差仍能维持在0.1 毫米之内。蔡司副总裁Frank Rohmund 透露，他们已累积了超过1,500 项与EUV 相关的技术专利。

这道由专利和精密工艺筑成的技术高墙，使任何其他企业想绕过蔡司自行制造EUV 微影机的镜组，几乎是微乎其微的希望。即使侥幸绕开部分专利，也难以达到蔡司产品的顶级技术水准，进而无法用于先进芯片的量产。

EUV 微影技术的研发历史已超过二十年，其成功不仅是单一公司的成就，更是全球化合作的典范。蔡司与ASML 的背后，有美国资本、德国政府以及欧盟等多元势力的共同支持。其庞大的供应链涵盖了全球超过1,200 家供应商，凸显了全球分工与顶级资源整合才是光刻机和芯片产业的核心发展模式。

此外，为了确保极致的制造品质，蔡司为其核心元件制造建立了独立的高洁净工厂。普通室内空气中每立方公尺约有上亿个悬浮微粒，而蔡司的洁净室能将灰尘数量大幅减少至3,500 个左右，并配备空气过滤和净化装置，确保设备运作的绝对精确度。

蔡司半导体部门拥有超过7,500 名专业员工，其中约1,500 人投入最新的High NA-EUV 微影机研发。其人才来自全球各地，涵盖了配镜师、机械工程师、机电整合工程师等顶尖人才。这种深度绑定的人才体系和企业文化，为蔡司创造了难以模仿的竞争优势。

面对国际间的地缘政治角力，过去曾仰赖全球化供应链的中国及其他地区，如今正被迫思考自主研发和国产化的道路。

虽然台湾在光学元件领域发展较早，例如早在1950 年代就有相机厂制造国产相机的初步经验，但要达到微影机核心镜组所需的极致精度，仍是巨大挑战。然而，台湾光学厂商如大立光、玉晶光等，正持续在手机镜头、显微镜、医疗设备等领域进行自主技术猛攻，这与蔡司早年的发展路径不谋而合。

精密元件的制造是确保半导体产业自主性必须面对的核心问题，唯有在全球化合作与自主技术研发两条腿走路，才能在未来的科技竞争中立于不败之地。

（来源：编译自tomshardware ）

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