北京
国家知识产权局信息显示，齐耐润科技（上海）股份有限公司申请一项名为“基于图像识别的半导体涂层分析方法、系统及存储介质”的专利，公开号CN122430255A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本申请涉及涂层质量检测的技术领域，公开了基于图像识别的半导体涂层分析方法、系统及存储介质，所述方法包括：S1、以预设的多个不同中心波长的照明光束分别照射经特氟龙涂层喷涂加工后的工件表面，多个不同中心波长至少包含一个位于可见光波段的第一波长、一个位于近红外波段的第二波长以及一个位于紫外波段的第三波长；S2、在每一照明光束照射条件下，利用偏振角度可调的偏振滤波组件获取相应的多光谱偏振图像组；本发明通过多波段与多偏振的联合采集和特征提取，为特氟龙涂层表面高反光环境下的细微表面缺陷和半透明表层下的亚表面缺陷提供了差异化的成像条件和特征表达手段，形成了能够协同处理表面缺陷与亚表面缺陷检测需求的成像方案。
天眼查资料显示，齐耐润科技（上海）股份有限公司，成立于2004年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本750万人民币。通过天眼查大数据分析，齐耐润科技（上海）股份有限公司参与招投标项目1次，专利信息75条，此外企业还拥有行政许可18个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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