北京
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国家知识产权局信息显示，威特尔有限公司申请一项名为“原子层沉积方式的光学薄膜镀膜装置”的专利，公开号CN122438976A，申请日期为2024年1月。
专利摘要显示，本发明涉及通过原子层沉积(ALD)方式在多个沉积对象基板进行光学薄膜镀膜的薄膜镀膜装置。本发明的薄膜镀膜装置为，通过原子层沉积(ALD)方式在多个沉积对象基板进行光学薄膜镀膜，包括：旋转体，构成为支撑所述基板，并且是以与地面平行的轴为中心轴进行旋转的圆筒形；工艺腔室，封闭所述旋转体及基板旋转的空间，并且在内部提供喷射沉积气体处理空间；多个气体喷射部，连接于所述工艺腔室并设置在与所述基板相向的一侧，并且将相互不同的气体喷射于所述处理空间；及排气部，连接于所述工艺腔室，并且从所述处理空间排放残留气体。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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