武汉鼎泽新材料技术有限公司等4家公司共同申请硅溶胶组合物相关专利，实现晶圆表面高精度全局平坦化

来源：新浪证券-红岸工作室

7月18日消息，国家知识产权局信息显示，武汉鼎泽新材料技术有限公司、鼎泽（仙桃）新材料技术有限公司、鼎龙（仙桃）新材料有限公司、湖北鼎龙控股股份有限公司申请一项名为“硅溶胶组合物、化学机械抛光组合物和抛光方法”的专利。申请公布号为CN122405227A，申请号为CN202610860863.9，申请公布日期为2026年7月17日，申请日期为2026年6月15日，发明人栗华、彭卓、胡怀志、刘子龙、肖桂林，分类号C09K3/14、C09G1/02、B24B37/04、B24B1/00、H10P52/40。

专利摘要显示，本申请提供了一种硅溶胶组合物、化学机械抛光组合物和抛光方法，涉及化学机械抛光技术领域。该硅溶胶组合物包括：经阴离子改性的胶态二氧化硅颗粒，含量为5~20wt%；氮化硅研磨促进剂，氮化硅研磨促进剂为α,β‑不饱和有机酸化合物，含量为0.01~0.1wt%；多晶硅研磨抑制剂，多晶硅研磨抑制剂的1wt%水溶液室温下在HF清洗后的多晶硅晶圆上的接触角为60~75°，多晶硅研磨抑制剂的含量为0.01~1wt%；化学机械抛光组合物的pH值为4~6。本申请通过使氮化硅与二氧化硅的研磨速率选择比近似1:1，从而实现了晶圆表面高度均匀的全局平坦化，满足了高精度多层堆叠结构对表面形貌的严苛要求。

天眼查数据显示，武汉鼎泽新材料技术有限公司成立日期2017年12月6日，法定代表人刘子龙，所属行业为化学原料和化学制品制造业，企业规模为小型，注册资本1500万人民币，实缴资本1312.71万人民币，注册地址为武汉经济技术开发区东荆河路1号办公楼6楼608室。武汉鼎泽新材料技术有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息0条，专利信息71条，拥有行政许可8个。

武汉鼎泽新材料技术有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1硅溶胶组合物、化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利公布CN202610860863.92026-06-15CN122405227A2026-07-17栗华、彭卓、胡怀志、刘子龙、肖桂林2化学机械抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202512036294.42025-12-30CN121873685A2026-04-17刘子龙、冉运、栗华、师航、肖桂林3表面改性胶态二氧化硅颗粒及包括其的抛光组合物、化学机械抛光方法发明专利公布CN202511824671.42025-12-05CN121628573A2026-03-10欧阳吉虹、欧阳广成、肖桂林、高越、夏欣妍、汤舒嵋4一种晶片清洗剂及其制备方法、晶片加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511735088.62025-11-25CN121574778A2026-02-27胡盼、胡怀志、杨兰、汤舒嵋5核壳结构的复合磨粒、铜阻挡层化学机械抛光液及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511657212.12025-11-13CN121518104A2026-02-13夏元玲、吴亮、肖桂林、王珍6化学机械抛光组合物和抛光基材的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511513233.62025-10-22CN121293884A2026-01-09夏欣妍、王临曦、肖桂林、张季平、高越、夏元玲、甄臻、欧阳吉虹、汤舒嵋7铜阻挡层化学机械抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511325379.82025-09-17CN120924168A2025-11-11高越、吴亮、肖桂林、夏欣妍、夏元玲、甄臻、欧阳吉虹、汤舒嵋8一种化学机械抛光组合物及其应用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510984147.72025-07-17CN120866826A2025-10-31汤舒嵋、高越、肖桂林、夏元玲、甄臻、夏欣妍、欧阳吉虹9化学机械抛光组合物和抛光铜基材的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510971178.92025-07-15CN120905676A2025-11-07夏欣妍、欧阳广成、肖桂林、张季平、高越、夏元玲、甄臻、欧阳吉红、汤舒嵋10硅溶胶及其制备方法和用于铜制程的研磨用组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510482626.92025-04-17CN120328568A2025-07-18欧阳广成、周航、高念、肖桂林11一种用于多晶硅的化学机械抛光组合物、抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510476194.02025-04-16CN120230484A2025-07-01王银、肖桂林、刘子龙、胡怀志、鲁丽平、徐阳12复配剂、用于铜的化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510476152.72025-04-16CN120272915A2025-07-08吴亮、肖桂林、刘子龙、胡怀志、欧阳广成、冉运、欧阳吉虹13一种表面粗糙的胶体二氧化硅及其制备方法和应用发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510454516.12025-04-11CN119954164B2025-06-13陈俊、李小龙、李清涛、杨淞元、甄臻、邹毓、董昊、刘文军14一种氧化铈粉体、分散方法及化学机械抛光液发明专利实质审查的生效、公布CN202510451059.02025-04-11CN120285843A2025-07-11王临曦、刘闯、向靖宇、肖桂林15一种CMP抛光液组合物及其在铜抛光中的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510439880.02025-04-09CN120272123A2025-07-08李宇龙、肖桂林、刘子龙、欧阳广成、冉运16改性二氧化硅溶胶及其制备方法和抛光组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510437983.32025-04-09CN120272166A2025-07-08邹毓、刘文军、李小龙17氧化铈颗粒及其制备方法和研磨用组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510440772.52025-04-09CN120288812A2025-07-11张旭、肖桂林、胡怀志、刘子龙18一种氧化铈粉体、制备方法及化学机械抛光液发明专利实质审查的生效、公布CN202510436429.32025-04-09CN120288811A2025-07-11向靖宇、谭显民、王临曦、肖桂林19一种化学机械抛光组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510422658.X2025-04-03CN120290104A2025-07-11冉运、欧阳广成、李宇龙、刘子龙、肖桂林20硅溶胶及其制备方法和研磨用组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510415721.72025-04-03CN120288781A2025-07-11刘文军、邹毓、陈俊、肖桂林21一种表面活性剂、用于钨的化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510413304.92025-04-03CN120289307A2025-07-11徐阳、肖桂林、刘子龙、胡怀志、鲁丽平、李智霖22一种碳化硅衬底粗抛用酸性氧化铝抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510399868.12025-04-01CN120098554A2025-06-06李智霖、肖桂林、徐阳、刘子龙、李博、夏元玲23CMP水性浆料组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510402975.52025-04-01CN120137535A2025-06-13黄维、肖桂林、刘子龙24一种宽分布大粒径硅溶胶的制备方法、硅溶胶及其应用发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510316558.92025-03-18CN119841322B2025-06-06刘志国、欧阳广成、肖桂林、徐东、周航、高念25研磨用组合物和对基材进行化学机械研磨的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411898475.72024-12-23CN122278437A2026-06-26张云鹏、栗华、徐阳、刘子龙、肖桂林26研磨用组合物和对基材进行化学机械研磨的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411830147.32024-12-12CN119842365A2025-04-18杨淞元、欧阳广成、徐阳27化学机械抛光用双分散硅溶胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202411805893.72024-12-10CN119797377A2025-04-11高念、李小龙、周航、欧阳广成、刘子龙、肖桂林28一种硅溶胶的制备方法、硅溶胶及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202411805586.92024-12-10CN119822378A2025-04-15高念、康靖、李小龙、周航、欧阳广成、刘子龙、肖桂林29水溶性聚合物及其制备方法、其在研磨用组合物中的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202411363693.02024-09-28CN119192444A2024-12-27栗华、张云鹏、刘子龙、肖桂林30晶圆清洗刷、清洗装置及清洗方法发明专利公布CN202410832554.12024-06-26CN118831866A2024-10-25胡怀志、高越、李亚东、王欢、肖桂林31一种含THEMAH的季铵碱液、制备方法及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410740947.X2024-06-11CN121107995A2025-12-12胡怀志、王培浩、毕明航、胡盼、刘子龙、肖桂林32化学机械抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410684478.42024-05-30CN118562394A2024-08-30刘子龙、冉运、黄维、肖桂林33一种化学机械抛光后清洗组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410529518.82024-04-29CN118421405A2024-08-02胡怀志、毕明航、王培浩、刘子龙、肖桂林34化学机械抛光后清洗组合物及半导体器件基板的清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410523991.52024-04-29CN118421414A2024-08-02胡怀志、王培浩、毕明航、刘子龙、肖桂林35一种化学机械抛光后清洗组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410529306.X2024-04-29CN118480413A2024-08-13毕明航、胡怀志、王培浩、刘子龙、肖桂林36化学机械抛光后清洗组合物及清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410518901.32024-04-28CN120843204A2025-10-28胡怀志、高越、唐奇乐、毕明航、胡盼、王培浩、刘子龙、肖桂林37一种光刻胶调配釜的清洗装置实用新型授权CN202321621267.32023-06-26CN220049330U2023-11-21胡怀志、胡盼、刘子龙、肖桂林38一种光刻胶管道循环清洗机构实用新型授权CN202321621444.82023-06-26CN220072698U2023-11-24王银、林东、刘子龙、肖桂林39一种清洗液管路供给装置实用新型专利申请权、专利权的转移、授权CN202321621646.22023-06-26CN220387358U2024-01-26陈俊武、刘子龙、肖桂林40一种抛光液温度控制装置实用新型专利申请权、专利权的转移、授权CN202321357241.22023-05-31CN219922704U2023-10-31黄维、刘子龙、肖桂林41一种清洗液贮留罐实用新型专利申请权、专利权的转移、授权CN202321357571.12023-05-31CN219949237U2023-11-03冉运、肖文正、刘子龙、肖桂林42一种抛光液传输设备实用新型专利申请权、专利权的转移、授权CN202321203172.X2023-05-18CN219945809U2023-11-03徐阳、陈鹏、刘子龙、肖桂林43化学机械抛光后清洗组合物及半导体器件基板的清洗方法发明专利授权、公布CN202310501171.12023-04-28CN116496853B2025-08-12刘子龙、胡怀志、冉运、王银、朱顺全44一种异氰酸酯预聚体、包含其的抛光垫、抛光设备及半导体器件的制造方法发明专利专利申请权、专利权的转移、授权、公布CN202211340233.72022-10-29CN115476267B2025-04-29罗乙杰、占英才、严亮、陈博、王淑芹、张季平、刘敏、蔡龙丹45一种自修整抛光垫及其制备方法和应用发明专利专利申请权、专利权的转移、授权、实质审查的生效、公布CN202211128759.92022-09-16CN115431175B2024-03-22王腾、殷晶莉、罗乙杰、刘敏、王椎、林文多、杨浩、黄锐46一种抛光垫发明专利专利申请权、专利权的转移、授权、实质审查的生效、公布CN202210978288.42022-08-16CN115284166B2024-02-23罗乙杰、陈博、张季平、高越、刘敏、蔡龙丹47一种抛光垫发明专利专利申请权、专利权的转移、专利申请权、专利权的转移、授权、实质审查的生效、公布CN202111633117.X2021-12-29CN114274043B2023-02-24王腾、邱瑞英、黄学良、黄珊珊、刘敏、罗乙杰48一种抛光垫及半导体器件的制造方法发明专利专利申请权、专利权的转移、专利申请权、专利权的转移、授权、实质审查的生效、公布CN202111633366.92021-12-29CN114473857B2023-03-14黄学良、高越、张季平、王欢、王腾、朱顺全49一种抛光垫及半导体器件的制造方法发明专利专利申请权、专利权的转移、授权、实质审查的生效、公布CN202111506054.12021-12-10CN114227530B2022-05-10罗乙杰、张季平、高越、刘敏50一种抛光垫发明专利专利申请权、专利权的转移、授权、实质审查的生效、公布CN202111506323.42021-12-10CN114193319B2022-10-18罗乙杰、张季平、高越、刘敏

天眼查数据显示，鼎泽（仙桃）新材料技术有限公司成立日期2022年4月20日，法定代表人刘子龙，所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业，企业规模为小型，注册资本1000万人民币，实缴资本1000万人民币，注册地址为仙桃市高新技术产业开发区新材料产业园仙河大道。鼎泽（仙桃）新材料技术有限公司共对外投资了0家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息0条，专利信息32条，拥有行政许可9个。

鼎泽（仙桃）新材料技术有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1硅溶胶组合物、化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利公布CN202610860863.92026-06-15CN122405227A2026-07-17栗华、彭卓、胡怀志、刘子龙、肖桂林2化学机械抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202512036294.42025-12-30CN121873685A2026-04-17刘子龙、冉运、栗华、师航、肖桂林3一种晶片清洗剂及其制备方法、晶片加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511735088.62025-11-25CN121574778A2026-02-27胡盼、胡怀志、杨兰、汤舒嵋4化学机械抛光组合物和抛光基材的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511513233.62025-10-22CN121293884A2026-01-09夏欣妍、王临曦、肖桂林、张季平、高越、夏元玲、甄臻、欧阳吉虹、汤舒嵋5铜阻挡层化学机械抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511325379.82025-09-17CN120924168A2025-11-11高越、吴亮、肖桂林、夏欣妍、夏元玲、甄臻、欧阳吉虹、汤舒嵋6一种化学机械抛光组合物及其应用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510984147.72025-07-17CN120866826A2025-10-31汤舒嵋、高越、肖桂林、夏元玲、甄臻、夏欣妍、欧阳吉虹7化学机械抛光组合物和抛光铜基材的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510971178.92025-07-15CN120905676A2025-11-07夏欣妍、欧阳广成、肖桂林、张季平、高越、夏元玲、甄臻、欧阳吉红、汤舒嵋8硅溶胶及其制备方法和用于铜制程的研磨用组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510482626.92025-04-17CN120328568A2025-07-18欧阳广成、周航、高念、肖桂林9一种用于多晶硅的化学机械抛光组合物、抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510476194.02025-04-16CN120230484A2025-07-01王银、肖桂林、刘子龙、胡怀志、鲁丽平、徐阳10复配剂、用于铜的化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510476152.72025-04-16CN120272915A2025-07-08吴亮、肖桂林、刘子龙、胡怀志、欧阳广成、冉运、欧阳吉虹11一种表面粗糙的胶体二氧化硅及其制备方法和应用发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510454516.12025-04-11CN119954164B2025-06-13陈俊、李小龙、李清涛、杨淞元、甄臻、邹毓、董昊、刘文军12一种氧化铈粉体、分散方法及化学机械抛光液发明专利实质审查的生效、公布CN202510451059.02025-04-11CN120285843A2025-07-11王临曦、刘闯、向靖宇、肖桂林13一种CMP抛光液组合物及其在铜抛光中的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510439880.02025-04-09CN120272123A2025-07-08李宇龙、肖桂林、刘子龙、欧阳广成、冉运14改性二氧化硅溶胶及其制备方法和抛光组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510437983.32025-04-09CN120272166A2025-07-08邹毓、刘文军、李小龙15氧化铈颗粒及其制备方法和研磨用组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510440772.52025-04-09CN120288812A2025-07-11张旭、肖桂林、胡怀志、刘子龙16一种氧化铈粉体、制备方法及化学机械抛光液发明专利实质审查的生效、公布CN202510436429.32025-04-09CN120288811A2025-07-11向靖宇、谭显民、王临曦、肖桂林17一种化学机械抛光组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510422658.X2025-04-03CN120290104A2025-07-11冉运、欧阳广成、李宇龙、刘子龙、肖桂林18硅溶胶及其制备方法和研磨用组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510415721.72025-04-03CN120288781A2025-07-11刘文军、邹毓、陈俊、肖桂林19一种表面活性剂、用于钨的化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510413304.92025-04-03CN120289307A2025-07-11徐阳、肖桂林、刘子龙、胡怀志、鲁丽平、李智霖20一种碳化硅衬底粗抛用酸性氧化铝抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510399868.12025-04-01CN120098554A2025-06-06李智霖、肖桂林、徐阳、刘子龙、李博、夏元玲

天眼查数据显示，鼎龙（仙桃）新材料有限公司成立日期2022年4月25日，法定代表人任骥麟，所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业，企业规模为小型，注册资本22000万人民币，实缴资本10000万人民币，注册地址为仙桃市高新技术产业开发区新材料产业园仙河大道。鼎龙（仙桃）新材料有限公司共对外投资了0家企业，参与招投标项目18次，财产线索方面有商标信息0条，专利信息26条，拥有行政许可94个。

鼎龙（仙桃）新材料有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1硅溶胶组合物、化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利公布CN202610860863.92026-06-15CN122405227A2026-07-17栗华、彭卓、胡怀志、刘子龙、肖桂林2化学机械抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202512036294.42025-12-30CN121873685A2026-04-17刘子龙、冉运、栗华、师航、肖桂林3表面改性胶态二氧化硅颗粒及包括其的抛光组合物、化学机械抛光方法发明专利公布CN202511824671.42025-12-05CN121628573A2026-03-10欧阳吉虹、欧阳广成、肖桂林、高越、夏欣妍、汤舒嵋4核壳结构的复合磨粒、铜阻挡层化学机械抛光液及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511657212.12025-11-13CN121518104A2026-02-13夏元玲、吴亮、肖桂林、王珍5铜阻挡层化学机械抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511325379.82025-09-17CN120924168A2025-11-11高越、吴亮、肖桂林、夏欣妍、夏元玲、甄臻、欧阳吉虹、汤舒嵋6一种化学机械抛光组合物及其应用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510984147.72025-07-17CN120866826A2025-10-31汤舒嵋、高越、肖桂林、夏元玲、甄臻、夏欣妍、欧阳吉虹7化学机械抛光组合物和抛光铜基材的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510971178.92025-07-15CN120905676A2025-11-07夏欣妍、欧阳广成、肖桂林、张季平、高越、夏元玲、甄臻、欧阳吉红、汤舒嵋8硅溶胶及其制备方法和用于铜制程的研磨用组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510482626.92025-04-17CN120328568A2025-07-18欧阳广成、周航、高念、肖桂林9一种用于多晶硅的化学机械抛光组合物、抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510476194.02025-04-16CN120230484A2025-07-01王银、肖桂林、刘子龙、胡怀志、鲁丽平、徐阳10复配剂、用于铜的化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510476152.72025-04-16CN120272915A2025-07-08吴亮、肖桂林、刘子龙、胡怀志、欧阳广成、冉运、欧阳吉虹11一种表面粗糙的胶体二氧化硅及其制备方法和应用发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510454516.12025-04-11CN119954164B2025-06-13陈俊、李小龙、李清涛、杨淞元、甄臻、邹毓、董昊、刘文军12一种CMP抛光液组合物及其在铜抛光中的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510439880.02025-04-09CN120272123A2025-07-08李宇龙、肖桂林、刘子龙、欧阳广成、冉运13改性二氧化硅溶胶及其制备方法和抛光组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510437983.32025-04-09CN120272166A2025-07-08邹毓、刘文军、李小龙14一种化学机械抛光组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510422658.X2025-04-03CN120290104A2025-07-11冉运、欧阳广成、李宇龙、刘子龙、肖桂林15硅溶胶及其制备方法和研磨用组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510415721.72025-04-03CN120288781A2025-07-11刘文军、邹毓、陈俊、肖桂林16一种表面活性剂、用于钨的化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510413304.92025-04-03CN120289307A2025-07-11徐阳、肖桂林、刘子龙、胡怀志、鲁丽平、李智霖17一种宽分布大粒径硅溶胶的制备方法、硅溶胶及其应用发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510316558.92025-03-18CN119841322B2025-06-06刘志国、欧阳广成、肖桂林、徐东、周航、高念18研磨用组合物和对基材进行化学机械研磨的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411898475.72024-12-23CN122278437A2026-06-26张云鹏、栗华、徐阳、刘子龙、肖桂林19一种热膨胀微球及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411804315.12024-12-10CN119463273A2025-02-18叶春辉、杨东锋、夏家乐、罗乙杰20化学机械抛光用双分散硅溶胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202411805893.72024-12-10CN119797377A2025-04-11高念、李小龙、周航、欧阳广成、刘子龙、肖桂林

鼎龙股份是国内光电半导体材料与打印复印耗材领域领先企业，2000年7月11日成立，2010年2月11日于深圳证券交易所上市，注册地为湖北省武汉市，办公地为湖北省武汉市、香港特别行政区。

公司主营业务涵盖打印复印通用耗材业务和光电半导体工艺材料业务，所属申万行业为电子-电子化学品Ⅱ-电子化学品Ⅲ，同时布局光刻胶、电子化学品、半导体材料相关概念板块。

2025年，鼎龙股份实现营业收入36.6亿元，在36家同行业企业中排名第4，仅次于西陇科学73.31亿元、国瓷材料45.83亿元，显著高于19.33亿元的行业平均营收与15.26亿元的行业营收中位数；当期归母净利润达7.96亿元，位列行业36家企业首位，小幅领先第二名安集科技的7.84亿元，大幅超出1.8亿元的行业平均净利润与1.25亿元的行业净利润中位数。公司营收结构高度集中，半导体材料及芯片产品、打印复印通用耗材产品合计贡献营收36.45亿元，占总营收比重达99.59%，其他业务营收为1488.66万元，占比仅0.41%。

指标类别 具体指标 数值情况 行业排名/对比 营收表现 2025年营业收入 36.6亿元 4/36，高于行业均值19.33亿元、中位数15.26亿元 盈利表现 2025年净利润 7.96亿元 1/36，高于行业均值1.8亿元、中位数1.25亿元 营收构成 核心业务营收占比 99.59% 半导体材料及芯片、打印复印耗材合计贡献36.45亿元 营收构成 其他业务营收占比 0.41% 对应营收1488.66万元

湖北鼎龙控股股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1硅溶胶组合物、化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利公布CN202610860863.92026-06-15CN122405227A2026-07-17栗华、彭卓、胡怀志、刘子龙、肖桂林2抛光垫及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610442544.62026-04-07CN122185046A2026-06-12王腾、黄云鹏、夏欣妍、刘志强、贺亚文3外电场诱导聚酰亚胺分子排列提高透明性的方法、系统及聚酰亚胺薄膜发明专利实质审查的生效、公布CN202610300293.82026-03-12CN121801144A2026-04-07刘学清、成为、赵奇峰、肖桂林、鲁丽平、陈风、苏敏光、黄金辉、陈佳、邹立勇、尤庆亮4负性光敏性树脂、感光树脂组合物及其制备方法与应用发明专利公布CN202610244431.52026-03-02CN122103574A2026-05-29李卓、肖桂林、王禹、何玉5光敏树脂组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610231247.72026-02-27CN122011288A2026-05-12张诚、洪金浪6高粘附性、高透明液晶聚酰亚胺薄膜及制备方法发明专利授权CN202610225933.32026-02-26CN121718048B2026-07-17刘学清、刘继延、成为、赵奇峰、尤庆亮、苏敏光、黄金辉、肖桂林、鲁丽平、邹立勇、陈风、陈佳7化学机械抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202512036294.42025-12-30CN121873685A2026-04-17刘子龙、冉运、栗华、师航、肖桂林8用于KrF抗蚀剂组合物中的树脂及其制备方法、抗蚀剂组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202511962144.X2025-12-24CN121717938A2026-03-24肖磊、袁俊杰、游怀、陈相见、杨旻朗、胡昊文9一种封装组合物、封装阻隔膜以及半导体器件发明专利实质审查的生效、公布CN202511924218.02025-12-19CN121758675A2026-03-31黄躜、王卓、唐招文、张萍、肖桂林10功能梯度抛光垫及其制备方法与应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511920262.42025-12-18CN121756228A2026-03-31毛丽华、罗乙杰、汤舒嵋11抛光层、包含其的抛光垫及半导体器件的制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511870808.X2025-12-12CN121374403A2026-01-23占英才、罗乙杰、严亮、夏欣妍、高越12化学机械抛光垫及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511853462.22025-12-10CN121517665A2026-02-13刘聪、罗乙杰、李赛13表面改性胶态二氧化硅颗粒及包括其的抛光组合物、化学机械抛光方法发明专利公布CN202511824671.42025-12-05CN121628573A2026-03-10欧阳吉虹、欧阳广成、肖桂林、高越、夏欣妍、汤舒嵋14一种调色剂及其制备方法发明专利公布CN202511768728.32025-11-28CN121541425A2026-02-17刘文峰、肖桂林、王永强、续守民、吕铃铃、许臣臣、潘君临15抗蚀剂组合物、光产酸剂的制备方法及图案形成方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511747023.32025-11-26CN121364599A2026-01-20罗祖获、丁炜、朱胜强、成凯、刘子豪16一种晶片清洗剂及其制备方法、晶片加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511735088.62025-11-25CN121574778A2026-02-27胡盼、胡怀志、杨兰、汤舒嵋17抛光软垫及其制备方法、以及半导体器件的制造方法发明专利公布CN202511720172.02025-11-21CN121552244A2026-02-24陈亚春、罗乙杰、王磊、陈博、丁文强、柳焱林18一种抛光垫及其制备方法发明专利授权CN202511719983.92025-11-21CN121156908B2026-03-17丁文强、阮波、陈亚春、郭纯、刘志强、罗乙杰、王磊19聚酯树脂乳液及其制备方法、以及调色剂及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511678096.12025-11-17CN121574522A2026-02-27潘君临、王永强、续守民、程振、许臣臣、高宇森20核壳结构的复合磨粒、铜阻挡层化学机械抛光液及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511657212.12025-11-13CN121518104A2026-02-13夏元玲、吴亮、肖桂林、王珍21化学机械抛光垫缓冲层、制备方法、抛光垫及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511648191.72025-11-12CN121340122A2026-01-16阮波、罗乙杰、王磊、郭纯、夏元玲、康智茗22负型感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法和半导体装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511630847.22025-11-10CN121477548A2026-02-06赵志强、肖桂林、王禹、张咏、涂先爽、郑林波、李卓23调色剂用聚酯树脂、调色剂以及静电荷图像显影剂发明专利实质审查的生效、公布CN202511558968.02025-10-29CN121136035A2025-12-16潘君临、王永强、续守民、程振、许臣臣、谭阳露24液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件发明专利实质审查的生效、公布CN202511518913.72025-10-23CN121406345A2026-01-27王禹、刘金果、张咏、陈诚、黄躜、肖桂林25负性感光树脂组合物、固化膜、图案固化膜及其应用发明专利授权CN202511516119.92025-10-23CN120993674B2026-03-06阮奇、周小明、王元强26化学机械抛光组合物和抛光基材的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511513233.62025-10-22CN121293884A2026-01-09夏欣妍、王临曦、肖桂林、张季平、高越、夏元玲、甄臻、欧阳吉虹、汤舒嵋27负性感光性着色树脂组合物、固化膜和图案加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511407328.X2025-09-29CN121187072A2025-12-23韩家斌、王元强、赵祖伊、杨熊钰、万仔强28感光树脂组合物、固化膜和彩色遮光层发明专利实质审查的生效、公布CN202511340603.02025-09-19CN121165394A2025-12-19杨恒、万仔强、王元强、周小明、樊林、唐招文、鲁丽平、肖桂林、朱双全29铜阻挡层化学机械抛光组合物及抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511325379.82025-09-17CN120924168A2025-11-11高越、吴亮、肖桂林、夏欣妍、夏元玲、甄臻、欧阳吉虹、汤舒嵋30一种负性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法发明专利专利申请权、专利权的转移、公布CN202511325141.52025-09-17CN120972454A2025-11-18解德升、夏元玲、刘敏31光致产酸剂、抗蚀剂组合物及图案形成方法发明专利专利申请权、专利权的转移、授权CN202511246222.62025-09-02CN120757484B2025-11-25徐枫、苏敏光、王鹏、刘敏32感光树脂组合物、固化膜、图案固化膜及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511233007.22025-09-01CN121091599A2025-12-09阮奇、王元强、周小明33多层核壳结构化学碳粉及其制备方法发明专利公布CN202511212649.42025-08-28CN120762259A2025-10-10程振、王永强、肖桂林34负型感光性树脂组合物、固化膜及其制造方法、层叠体、半导体元件发明专利实质审查的生效、公布CN202511213693.72025-08-28CN121142901A2025-12-16郑林波、肖桂林、王禹、赵志强35无氟感光树脂组合物、图案化的固化物发明专利公布CN202511203222.82025-08-27CN121028462A2025-11-28胡立文、刘协鹏、汤舒嵋36一种含氟树脂粉末、包含其的光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用发明专利专利申请权、专利权的转移、授权CN202511205103.62025-08-27CN120704062B2025-12-09张公平、苏敏光、游怀、陈相见、刘敏37化合物、聚合物、光致抗蚀剂组合物及图案形成方法发明专利专利申请权、专利权的转移、实质审查的生效、公布CN202511207207.02025-08-27CN121135616A2025-12-16成凯、夏元玲、王鹏、刘敏38含氟树脂、抗蚀剂组合物及图案形成方法发明专利专利申请权、专利权的转移、实质审查的生效、公布CN202511205497.52025-08-27CN121135944A2025-12-16王先进、万海星、李兆明39酸扩散控制剂、抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法发明专利专利申请权、专利权的转移、实质审查的生效、公布CN202511207432.42025-08-27CN121159439A2025-12-19王鹏、夏元玲、成凯、刘敏40正型感光性树脂组合物、固化膜和图案加工方法发明专利公布CN202511150742.72025-08-18CN120949513A2025-11-14杨熊钰、王元强、周小明、樊林、柯孝明、鲁丽平、肖桂林、朱双全41聚酰亚胺前体、液晶取向剂、液晶取向膜及制造方法、液晶表示元件发明专利授权、公布CN202511099522.62025-08-07CN120590629B2025-11-04刘金果、肖桂林、王禹、张咏、刘玉红、孙羊42一种化学机械抛光组合物及其应用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510984147.72025-07-17CN120866826A2025-10-31汤舒嵋、高越、肖桂林、夏元玲、甄臻、夏欣妍、欧阳吉虹43终点检测窗口、化学机械抛光垫及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510987028.72025-07-17CN120865505A2025-10-31严亮、罗乙杰、占英才、刘聪、林文多44一种均质化学机械抛光垫及检测抛光垫炭黑分布均匀度的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510976071.32025-07-16CN120791629A2025-10-17刘聪、罗乙杰、李赛、吴齐辉45化学机械抛光组合物和抛光铜基材的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510971178.92025-07-15CN120905676A2025-11-07夏欣妍、欧阳广成、肖桂林、张季平、高越、夏元玲、甄臻、欧阳吉红、汤舒嵋46一种液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件发明专利实质审查的生效、公布CN202510880408.02025-06-27CN120818140A2025-10-21王禹、刘金果、陈诚、黄躜、张咏、肖桂林47锍盐化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法发明专利专利申请权、专利权的转移、实质审查的生效、公布CN202510664964.42025-05-22CN120554265A2025-08-29万海星、李兆明、苏敏光、汤舒嵋48硅溶胶及其制备方法和用于铜制程的研磨用组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202510482626.92025-04-17CN120328568A2025-07-18欧阳广成、周航、高念、肖桂林49一种用于多晶硅的化学机械抛光组合物、抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510476194.02025-04-16CN120230484A2025-07-01王银、肖桂林、刘子龙、胡怀志、鲁丽平、徐阳50复配剂、用于铜的化学机械抛光组合物和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510476152.72025-04-16CN120272915A2025-07-08吴亮、肖桂林、刘子龙、胡怀志、欧阳广成、冉运、欧阳吉虹