北京
国家知识产权局信息显示，天津华创芯微科技发展有限公司申请一项名为“一种半导体处理设备中气体流量调校方法、设备及介质”的专利，公开号CN122363372A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体处理设备中气体流量调校方法、设备及介质，涉及流量控制技术领域，包括，对供气通路进行分段整理，生成分段供气通路并执行真空泄漏检测，得到泄漏位置，沿供气方向将泄漏位置进行串接，生成泄漏路径表；按泄漏路径表驱动调校气体在分段供气通路之间进行逐段换接，并在每次换接后对分段供气通路的前段封停，对分段供气通路的后段续通，将换接前后的导气变化编排为分段差异表；从分段差异表中筛出泄漏影响段和导气变化异常段，并将泄漏影响段与导气变化异常段进行交叉锁定，生成调校位置表。本发明通过对泄漏影响段与导气变化异常段进行关联锁定，使整个气体流量调校过程具备更好的连续性、准确性和执行稳定性。
天眼查资料显示，天津华创芯微科技发展有限公司，成立于2017年，位于天津市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本800万人民币。通过天眼查大数据分析，天津华创芯微科技发展有限公司参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息11条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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