北京
国家知识产权局信息显示，浙江材华科技有限公司申请一项名为“一种显示光刻胶色浆用酞菁染料及其合成方法”的专利，公开号CN122344411A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本发明公开了一种高耐光性、耐溶剂性和耐迁移性显示光刻胶色浆染料分子及其合成方法，所述合成方法包括如下步骤：（1）芳香亲电取代反应：利用邻苯二腈与二元醇、二元胺或二元酸进行偶联反应，经后处理，得中间体A；（2）环化反应，利用盐与中间体B发生环化反应，经后处理，得光刻胶色浆染料分子。本发明提供了一种含有大环结构的酞菁类染料分子，该酞菁类染料分子应用于显示用光刻胶色浆的配制，成膜后表现出优秀的高耐光性、耐溶剂性和耐迁移性。相较于不含大环类结构的酞菁染料分子，其耐溶剂性和耐迁移性有显著提高；此外该酞菁类染料色浆具有高耐候性、高溶解性、高透过率、高对比度、高着色力等优点。
天眼查资料显示，浙江材华科技有限公司，成立于2019年，位于绍兴市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1517.6242万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江材华科技有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息36条，专利信息113条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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