安徽
近日，日本理化学研究所杉冈幸次团队与埼玉县恩普乐斯研究所联合宣布，成功开发出全球速度最快的玻璃基板微米级深孔激光加工技术。
该技术可在1.1毫米厚的玻璃基板上实现每秒3000个贯穿孔的加工效率，单孔激光照射时间不足1纳秒，孔洞纵横比达到1000:1，各项核心指标均刷新行业纪录。
在玻璃基板加速成为下一代先进封装核心材料的产业节点上，这项突破直接打通了玻璃通孔量产的核心效率瓶颈。
（本文图片均源自网络，仅供参考）
01、世界最快玻璃激光加工技术
日本的这项技术的核心创新在于超短脉冲串与贝塞尔光束的组合方案。
不同于传统激光依靠长脉冲热蚀除材料的加工逻辑，日本的研究团队采用吉赫兹频率的脉冲串模式，单组激光在1纳秒的时间窗口内集成5个超短脉冲，同时通过圆锥形透镜将光束整形为细长的贝塞尔光束。
这种特殊光束具备超长焦深与非衍射自修复特性，能够在玻璃内部全深度维持均匀的能量密度，单次照射即可完成1.1毫米厚玻璃的全程穿孔，无需逐层扫描。
最终成型的孔径仅1.1微米，孔壁锥度极低，无裂纹、无崩边缺陷，完全满足半导体封装的高可靠性要求。
02、是如何实现高速加工的？
答案是：极致的时间控制。
由于单孔照射时间被压缩到1纳秒以内，即使激光与基板的相对扫描速度达到每秒1米，照射过程中的相对位移也不足1纳米，几乎可以忽略不计，完全不会造成孔位倾斜、孔形变形。
这意味着加工过程中玻璃基板可保持连续高速移动，无需逐孔停驻对位，直接实现了每秒3000孔的稳定产能。
研究团队表示，若配套工业级高速运动台，加工效率有望进一步提升至每秒1万孔，相比传统激光刻蚀工艺效率提升超过两万倍。
03、攻克三大行业难题？
从技术维度看，日本这项技术成果攻克了玻璃微加工长期存在的三大行业难题。
1、硬脆材料的低损伤加工矛盾。
玻璃脆性高、抗热冲击能力差，传统长脉冲激光加工会形成大范围热影响区，引发孔周内应力集中，极易出现微裂纹与崩边，直接拉低封装良率；
而普通超短脉冲激光的高斯光束焦深浅，很难在毫米级厚度上维持能量均匀，高纵横比通孔的成型质量难以保障。
此次方案用贝塞尔光束解决了深焦问题，同时以纳秒级脉冲串快速累积能量击穿玻璃，既控制了热扩散范围，又实现了高深径比的无裂纹加工。
2、量产效率与加工精度的平衡困境。
过去为保证孔形垂直度与内壁光滑度，行业多采用分步扫描、湿法辅助刻蚀的工艺路线，单孔加工耗时长达数毫秒，一片基板数百万个通孔的加工周期动辄数小时，制造成本居高不下。
此次技术通过单次照射直接成型，将单孔加工时间压缩到纳秒级，同时靠超短照射时间抵消了高速运动带来的位置偏差，首次在量产级速度上实现了亚微米级的孔形精度。
3、高纵横比的孔形均匀性难题。
1000:1的纵横比相当于在1米深的井中打出直径1毫米的圆孔，传统工艺极易出现上宽下窄的严重锥度，甚至中途断孔。贝塞尔光束的非衍射特性让激光能量在整个深度范围内保持一致，从玻璃表面到背面的孔径偏差被控制在极小范围，为后续通孔铜填充工艺扫清了障碍。
英特尔已出货首款搭载玻璃芯基板的至强6处理器，台积电、三星也相继启动玻璃中介层的试产线布局。
玻璃基板凭借热膨胀系数匹配硅、高频损耗低、大尺寸无翘曲等优势，正在成为AI时代3D异构封装的核心材料，而通孔加工效率正是制约其大规模量产的核心环节。
目前理研团队已明确将该技术向半导体中介层场景推广，随着后续装备化验证推进，有望大幅降低玻璃基板加工成本，推动先进封装加速向玻璃基时代过渡。
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