北京
国家知识产权局信息显示，厦门芯壹方科技有限公司取得一项名为“一种用于ALD-CVD设备的环形均流分气环”的专利，授权公告号CN224395012U，申请日期为2025年8月。
专利摘要显示，本实用新型涉及一种用于ALD‑CVD设备的环形均流分气环，包括环体，环体内形成有气道，气道朝向环体内周面形成有多个间隔设置的出气孔，环体外周面形成有进气接口，进气接口和气道相互连通，出气孔离进气接口越远孔径越大，多个出气孔孔径随着离进气接口距离的变化而变化，离进气接口越远的出气孔，其孔径越大，保证在进气接口进气一段时间后，各出气孔的出气量一致，确保注入气体沿腔体360°环向均匀分布，该设计能够有效避免气体在腔体内的局部浓度过高或过低现象，从而使等离子体的产生和化学反应更加一致，显著提升8英寸及以上大面积基片的薄膜均匀性。
天眼查资料显示，厦门芯壹方科技有限公司，成立于2024年，位于厦门市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，厦门芯壹方科技有限公司参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息7条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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