奕斯伟材料、奕斯伟硅片取得抛光垫清洗相关专利，根据反射水流压力调整喷头清洗操作

来源：新浪证券-红岸工作室

6月23日消息，国家知识产权局信息显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司、西安奕斯伟硅片技术有限公司申请一项名为“一种清洗抛光垫的方法及装置”的专利，授权公告号CN114434332B，授权公告日为2026年6月19日。申请公布号为CN114434332A，申请号为CN202011223294.6，申请公布日期为2026年6月19日，申请日期为2020年11月5日，发明人王建新，专利代理机构西安维英格知识产权代理事务所（普通合伙），专利代理师沈寒酉、李斌栋，分类号B24B53/017、B24B49/00。

专利摘要显示，本发明实施例公开了一种清洗抛光垫的方法及装置；该方法可以包括：高压清洗喷头按照设定角度向抛光垫上的目标区域喷射去离子水流时，通过在所述抛光垫上方的设定位置所设置的压力传感器感应反射水流的压力值；相应于所述反射水流的压力值大于设定的第一压力阈值，延长所述高压清洗喷头向所述目标区域喷射去离子水流的时长；相应于所述反射水流的压力值小于设定的第二压力阈值，移动所述高压清洗喷头以向所述目标区域的下一区域喷射去离子水。

西安奕材于2016年3月16日成立，2025年10月28日在上海证券交易所上市，注册地和办公地均为陕西省西安市。该公司是国内专注12英寸硅片研发生产销售的企业，在半导体材料领域具备一定技术实力。

西安奕材主营业务为12英寸硅片的研发、生产和销售，所属申万行业为电子 - 半导体 - 半导体材料，涉及碳基半导体、大硅片、存储概念等板块。

2025年，西安奕材营业收入26.49亿元，在26家同行中排名第6，行业第一名有研新材为95.42亿元，第二名雅克科技为86.11亿元，行业平均数为19.89亿元，中位数为11.14亿元。其主营业务构成中，测试片收入10.42亿元占比39.33%，抛光片9.84亿元占比37.15%，外延片6.1亿元占比23.03%，其中高端测试片4.61亿元占比17.39%，其他（补充）1315万元占比0.50%。净利润方面，2025年为 -7.38亿元，在26家同行中排名第25，行业第一名雅克科技为10.3亿元，第二名江丰电子为4.14亿元，行业平均数为3265.85万元，中位数为8178.71万元。

西安奕斯伟材料科技股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1外延片生长方法、外延片生长设备以及外延片发明专利公布CN202610384651.82026-03-26CN122169208A2026-06-09梁鹏欢、张海洋2外延片生产方法以及外延片发明专利公布CN202610384646.72026-03-26CN122169207A2026-06-09梁鹏欢3协同控制体微缺陷的直拉硅单晶生长方法、装置及硅晶圆发明专利实质审查的生效、公布CN202610368132.22026-03-24CN122013300A2026-05-12毛勤虎4晶圆局部形貌风险的评估方法和系统、设备、介质和产品发明专利公布CN202610367443.72026-03-24CN122249026A2026-06-19马强强、李康康5动态热场调控方法、单晶炉控制系统及计算机存储介质发明专利公布CN202610354775.12026-03-23CN122189855A2026-06-12郭宏雁、潘浩、张鹏举6一种加料角度调节方法及系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610350636.12026-03-20CN121931593A2026-04-28赵嘉诚7一种拉晶收尾控制方法、装置及计算机存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202610346713.62026-03-20CN121931597A2026-04-28杨文武、宁沛娜8单晶生长方法及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610345729.52026-03-20CN121931595A2026-04-28潘浩、石小磊9一种晶体生长控制方法、装置及单晶硅生长炉发明专利实质审查的生效、公布CN202610346716.X2026-03-20CN121931598A2026-04-28杨文武、宁沛娜10一种研磨定盘及研磨设备、研磨方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610347640.22026-03-20CN122008064A2026-05-12章晓东11抛光机、抛光垫检测方法、装置、检测设备、产品及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202610345452.62026-03-20CN122008069A2026-05-12杨鑫卓12一种加热系统、方法及单晶硅生长装置发明专利实质审查的生效、公布CN202610349958.42026-03-20CN122039199A2026-05-15潘浩、王浩、孙洪涛13一种拉制单晶硅棒的方法、系统及晶圆发明专利实质审查的生效、公布CN202610346714.02026-03-20CN122082099A2026-05-26杨文武、宁沛娜14用于消除外延片背面光环缺陷的半导体工艺设备及方法发明专利公布CN202610346954.02026-03-20CN122214839A2026-06-16刘晨阳、王力、王雄15晶圆划伤检测方法、装置及计算设备发明专利公布CN202610295157.42026-03-11CN122222946A2026-06-16郭宏雁、林可、高坤、李康康16外延片的制备方法、外延片以及外延生长设备发明专利公布CN202610286950.82026-03-10CN122215064A2026-06-16梁鹏欢、张海洋17一种晶圆形貌分类的方法、装置、设备及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202610269906.62026-03-06CN122049540A2026-05-15李彤、兰洵、袁力军、李安杰、张婉婉18一种单晶炉及单晶炉拉晶方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610269904.72026-03-06CN122105602A2026-05-29邹永鑫、郝昭慧、兰洵19一种拉制晶棒的方法以及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202610271370.12026-03-06CN122105603A2026-05-29杨文武、宁沛娜20拉晶方法、装置、系统及单晶硅发明专利实质审查的生效、公布CN202610271117.62026-03-06CN122105606A2026-05-29蔡媛媛、张波娟、赵恒21半导体晶棒生长工艺的缺陷检测方法、装置及计算设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610270993.72026-03-06CN122108959A2026-05-29蔡媛媛22晶圆参数预测方法、装置及计算设备发明专利公布CN202610272987.52026-03-06CN122153650A2026-06-05田雨欣、兰洵、张婉婉、李安杰、邹永鑫23一种晶圆边缘检测方法、系统及介质发明专利公布CN202610266422.62026-03-05CN122227930A2026-06-16郑文腾24用于晶圆的处理方法及系统发明专利公布CN202610260414.02026-03-04CN122227968A2026-06-16张申申25晶圆、检测晶圆边缘形貌的方法、装置及晶圆制造方法发明专利公布CN202610258367.62026-03-04CN122227928A2026-06-16薛浩波、张婉婉、袁力军26一种半导体拉晶用石英坩埚的防倾斜支撑装置发明专利实质审查的生效、公布CN202610248184.62026-03-02CN122082097A2026-05-26龙飞27切割方法和装置、晶圆、存储介质及程序产品和电子设备发明专利公布CN202610248434.62026-03-02CN122210797A2026-06-16朱海海28单晶炉及单晶炉排气管道的清洁方法、装置及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202610161883.72026-02-04CN122105601A2026-05-29彭标、孙洪涛、纪天平、姜辉29一种晶圆清洗缺陷溯源锁定系统及方法发明专利公布CN202610149171.32026-02-03CN122180366A2026-06-09要佳兴、马成琛30晶棒处理设备和晶棒处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610120374.X2026-01-28CN121945472A2026-05-01郭宏雁、黄兆皓31一种实时调节清洗加工参数的清洗系统及方法发明专利公布CN202610108240.62026-01-27CN122161377A2026-06-05默玉海、周铖、陈祖庆32搬运指令生成方法、系统、装置及计算设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610100691.52026-01-26CN122085903A2026-05-26刘洋、魏洋、李昊33用于单晶硅生长炉的导流装置、方法及单晶硅生长炉发明专利公布CN202610104861.72026-01-26CN122189848A2026-06-12蔡媛媛、郭宏雁、张鹏举、申艳蕊34排产派工方法及系统、计算机可读存储介质及产品、电子设备发明专利公布CN202610087864.42026-01-22CN122155160A2026-06-05李嘉楠、陈建勇、张建玲、范东方、张钊35硅片刻蚀方法和硅片刻蚀设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610079762.82026-01-21CN121865865A2026-04-14贾志怡36晶圆的处理方法、晶圆组件及半导体晶圆发明专利实质审查的生效、公布CN202610047548.42026-01-14CN122121551A2026-05-29王文娟、张博、兰洵、车宇航、刘贵浩37控制半导体单晶生长的方法、装置、及晶棒发明专利公布CN202512010297.02025-12-29CN121653837A2026-03-13杨文武、宁沛娜38半导体制造设备，及其尾气处理方法、系统发明专利实质审查的生效、公布CN202512010197.82025-12-29CN121944738A2026-05-01杨文武、宁沛娜39一种硅片缺陷处理方法、表面处理液、硅片及清洗装置发明专利实质审查的生效、公布CN202512012667.42025-12-29CN122028669A2026-05-12张申申40拉晶工艺的功率控制方法、装置、设备及计算机存储介质发明专利公布CN202511996021.82025-12-26CN121675079A2026-03-17杨文武、宁沛娜41绝缘体上硅衬底及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511982090.32025-12-25CN122073993A2026-05-22李娟、兰洵、蒋治国42半导体晶圆及其处理方法和系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511982083.32025-12-25CN122073964A2026-05-22李娟、蒋治国、兰洵43绝缘体上硅衬底及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511982091.82025-12-25CN122073994A2026-05-22李娟、兰洵、蒋治国44双面抛光方法及设备、计算设备、介质及抛光晶圆发明专利实质审查的生效、公布CN202511961424.92025-12-24CN122008066A2026-05-12潘石、刘还平、白强强、王明45一种晶圆的抛光方法以及晶圆发明专利实质审查的生效、公布CN202511956856.02025-12-23CN121941286A2026-04-28贾磊、杨新元、王明46硅片评价方法、制造方法、装置及硅片发明专利实质审查的生效、公布CN202511938952.22025-12-22CN122094465A2026-05-26袁力军、李安杰、兰洵、张婉婉、李彤47抛光头组件、化学机械抛光系统及晶圆的制备方法发明专利公布CN202511911677.52025-12-17CN121624982A2026-03-10王鹏、许涛、杨启48晶圆检测设备和晶圆检测方法发明专利公布CN202511904874.42025-12-17CN121678673A2026-03-17薛博涛、陈光林、刘玉乾、黄兆皓49单晶硅棒的生长控制方法、装置、介质以及单晶炉发明专利实质审查的生效、公布CN202511905877.X2025-12-17CN121951677A2026-05-01潘浩、崔源进、张鹏举50一种晶圆清洁系统及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511907326.72025-12-17CN121969052A2026-05-01康建

天眼查数据显示，西安奕斯伟硅片技术有限公司成立日期2018年2月9日，法定代表人刘还平，所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业，企业规模为中型，注册资本660000万人民币，实缴资本660000万人民币，注册地址为陕西省西安市高新区西沣南路1888号。西安奕斯伟硅片技术有限公司共对外投资了0家企业，参与招投标项目380次，财产线索方面有商标信息0条，专利信息1081条，拥有行政许可54个。

西安奕斯伟硅片技术有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1外延片生长方法、外延片生长设备以及外延片发明专利公布CN202610384651.82026-03-26CN122169208A2026-06-09梁鹏欢、张海洋2外延片生产方法以及外延片发明专利公布CN202610384646.72026-03-26CN122169207A2026-06-09梁鹏欢3晶圆局部形貌风险的评估方法和系统、设备、介质和产品发明专利公布CN202610367443.72026-03-24CN122249026A2026-06-19马强强、李康康4一种研磨定盘及研磨设备、研磨方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610347640.22026-03-20CN122008064A2026-05-12章晓东5抛光机、抛光垫检测方法、装置、检测设备、产品及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202610345452.62026-03-20CN122008069A2026-05-12杨鑫卓6用于消除外延片背面光环缺陷的半导体工艺设备及方法发明专利公布CN202610346954.02026-03-20CN122214839A2026-06-16刘晨阳、王力、王雄7晶圆划伤检测方法、装置及计算设备发明专利公布CN202610295157.42026-03-11CN122222946A2026-06-16郭宏雁、林可、高坤、李康康8外延片的制备方法、外延片以及外延生长设备发明专利公布CN202610286950.82026-03-10CN122215064A2026-06-16梁鹏欢、张海洋9用于晶圆的处理方法及系统发明专利公布CN202610260414.02026-03-04CN122227968A2026-06-16张申申10一种半导体拉晶用石英坩埚的防倾斜支撑装置发明专利实质审查的生效、公布CN202610248184.62026-03-02CN122082097A2026-05-26龙飞11切割方法和装置、晶圆、存储介质及程序产品和电子设备发明专利公布CN202610248434.62026-03-02CN122210797A2026-06-16朱海海12一种晶圆清洗缺陷溯源锁定系统及方法发明专利公布CN202610149171.32026-02-03CN122180366A2026-06-09要佳兴、马成琛13晶棒处理设备和晶棒处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610120374.X2026-01-28CN121945472A2026-05-01郭宏雁、黄兆皓14搬运指令生成方法、系统、装置及计算设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610100691.52026-01-26CN122085903A2026-05-26刘洋、魏洋、李昊15排产派工方法及系统、计算机可读存储介质及产品、电子设备发明专利公布CN202610087864.42026-01-22CN122155160A2026-06-05李嘉楠、陈建勇、张建玲、范东方、张钊16一种硅片缺陷处理方法、表面处理液、硅片及清洗装置发明专利实质审查的生效、公布CN202512012667.42025-12-29CN122028669A2026-05-12张申申17晶圆检测设备和晶圆检测方法发明专利公布CN202511904874.42025-12-17CN121678673A2026-03-17薛博涛、陈光林、刘玉乾、黄兆皓18一种电阻率测试装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511897839.42025-12-16CN121917845A2026-04-24贺鹏19处理方法及系统、电子设备、计算机可读存储介质及产品发明专利实质审查的生效、公布CN202511887022.92025-12-15CN122089632A2026-05-26白夏红、陈建勇、范东方、张钊20一种拉晶装置及拉晶方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511869249.02025-12-11CN121781273A2026-04-03闫龙、张鹏举、吴超、纪天平、李智超21一种边缘缺陷的检测方法、装置、设备、系统及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511869589.32025-12-11CN122016796A2026-05-12周淼22热场调节装置、单晶炉和热场调节方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511856243.X2025-12-10CN121344772A2026-01-16黄文洋23一种晶棒切割装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511858998.32025-12-10CN121572470A2026-02-27王磊磊、霍慧文、刘士靖、刘倩24一种拉晶收尾的控制方法及系统发明专利公布CN202511858477.82025-12-10CN121826878A2026-04-10纪天平、彭标、闫龙25一种晶圆的检测方法、系统及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511859289.72025-12-10CN121908854A2026-04-21史铁柱、庞鲁、王龙26半导体设备的检验方法、装置、设备、系统及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511854133.X2025-12-10CN121978104A2026-05-05李康康27缺陷晶圆的拦截方法、装置、设备及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511842176.62025-12-09CN121969119A2026-05-01程瑜、贺鑫、胡一洲、万珣28硅片研磨的生产系统、控制方法和装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511840651.62025-12-08CN121870626A2026-04-17王琛、张宁轩、黄兆皓29一种晶圆的检测方法、系统及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511840660.52025-12-08CN121925097A2026-04-24史铁柱、庞鲁、王龙30一种外延片边缘形貌补偿型晶圆双面抛光装置及方法发明专利公布CN202511770029.22025-11-28CN121535652A2026-02-17王俊夫31晶圆检测与标识的设备、方法及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511775182.42025-11-28CN121865898A2026-04-14李乐杰、张钊、范东方、陈建勇32一种基于重力自适应限位的晶圆边缘刻蚀装置及方法发明专利公布CN202511761617.X2025-11-27CN121843479A2026-04-10郝宁、程辰辰33一种抛光垫及晶圆抛光方法发明专利公布CN202511766031.22025-11-27CN121821202A2026-04-10王俊夫、柴朝军34硅片线痕检测方法、装置、存储介质及电子设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511767321.92025-11-27CN121888926A2026-04-17张申申35载具搬运方法、系统、装置及计算设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511764667.32025-11-27CN121925077A2026-04-24李迅、范东方、王贵石、张更36一种具有集成式温度补偿的双面抛光系统及方法发明专利公布CN202511755203.62025-11-26CN121552239A2026-02-24王俊夫37晶圆生产的控制方法、装置、设备、系统及存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511755100.X2025-11-26CN121865897A2026-04-14赵恒、范东方、陈建勇、张钊38确定硅片放置方向的方法、装置、设备及介质发明专利公布CN202511722852.62025-11-21CN121837362A2026-04-10李康康39一种包装袋折袋装置及方法发明专利公布CN202511711385.72025-11-20CN121536561A2026-02-17李毅波、苏建生、韩嘉豪、王奕杰40在双面抛光中抑制晶圆划伤的系统、方法及双面抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511711576.32025-11-20CN121589713A2026-03-03王俊夫41晶棒拉速的优化方法、装置、设备及计算机存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511712015.52025-11-20CN121903418A2026-04-21秦浩、庞鲁、王龙、同嘉锡42一种清洗装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511659712.92025-11-13CN121468400A2026-02-06蔡培锋、周勤学43一种调整双面抛光设备参数的方法、装置和介质发明专利公布CN202511664476.X2025-11-13CN121832444A2026-04-10王俊夫、周勤学、王龙飞、杨轩、马驰44用于检测物体表面缺陷的方法、装置、系统及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511655376.02025-11-12CN121740778A2026-03-27付子成、党志伟45用于抛光载盘的预清洗装置、自适应抛光系统及清洗方法发明专利公布CN202511645965.02025-11-11CN121821244A2026-04-10王俊夫46改善抛光垫平坦度的方法、双面抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511602298.82025-11-04CN121132500A2025-12-16杨轩、柴朝军、马驰、王俊夫、邢东47工艺腔室的判定方法及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511592258.X2025-11-03CN121443034A2026-01-30孙毅、韩喜盈48用于抛光垫的检测及清洗装置、方法及抛光设备发明专利公布CN202511551473.52025-10-28CN121670508A2026-03-17马驰、杨轩、王俊夫49校准系统及校准方法发明专利公布CN202511515728.22025-10-22CN121666003A2026-03-13杨舒乐50硅片处理装置及方法发明专利公布CN202511499502.82025-10-20CN121665970A2026-03-13郭宏雁、郝胤祚、马成琛、冯智、赵栋、贾晓东