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芯片制造过程中，晶圆光刻、蚀刻、抛光等工序都需超纯水反复冲洗，水质纯度直接影响芯片成品良率，是电子、高端制造行业不可或缺的隐形工艺水源。
超纯水区别于普通纯净水，是去除水中绝大部分离子、有机物、颗粒物及微生物的顶级工业用水，以电阻率作为核心纯度判定标准，纯度极高、几乎不导电，是工业用水的最高等级。
工业超纯水主流采用预处理→双级反渗透→EDI→终端抛光成熟工艺。预处理过滤杂质、余氯，保护后端设备；双级反渗透深度脱盐，去除大部分污染物；EDI电除盐无需酸碱再生，绿色稳定提纯；最后通过抛光、紫外杀菌、终端超滤等精处理，产出高规格超纯水。
该设备广泛适配半导体电子、制药医疗、光伏新能源、精密光学等领域，可满足药企GMP、药典标准及芯片、硅片、光学镀膜等高精工艺用水需求。
科伟达集团专业提供工业超纯水、中水回用及污水处理成套设备，反渗透+EDI系统产水稳定，支持个性化定制，适配多行业高端用水场景。
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