北京
国家知识产权局信息显示，全芯智造技术股份有限公司申请一项名为“版图修正方法、电子设备、存储介质以及光刻设备”的专利，公开号CN122219012A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本公开的实施例涉及版图修正方法、电子设备、存储介质以及光刻设备。该版图修正方法包括：响应于确定目标版图中的待调整的目标金属引线层版图，获取与目标金属引线层版图相邻的通孔层版图和金属引线层版图的版图数据；以及基于金属引线和与目标金属引线相邻的通孔调整目标金属引线，以生成更新的目标金属引线层版图，其中，该金属引线为基于所获取的版图数据而确定的在目标金属引线层版图中的待调整的目标金属引线上方和下方中的至少一方的与目标金属引线相邻的金属引线。本公开的实施例能够增大金属引线层修正后的工艺窗口，从而提升产品良率。
天眼查资料显示，全芯智造技术股份有限公司，成立于2019年，位于合肥市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析，全芯智造技术股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目68次，财产线索方面有商标信息228条，专利信息232条，此外企业还拥有行政许可5个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
