北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“用于金属氧化物光刻胶之干式显影”的专利，公开号CN122180922A，申请日期为2024年11月。
专利摘要显示，本文所述的实施方式关于用于显影抗蚀剂层的方法，所述抗蚀剂层包括锡与氧且具有暴露区与非暴露区。在一实施方式中，此包括施加表面处理至所述抗蚀剂层，其中所述表面处理将氟并入所述非暴露区。在一实施方式中，所述方法进一步包括以干式显影处理来显影所述抗蚀剂层，所述干式显影处理包括来源气体，所述来源气体包括氢，其中经显影的所述抗蚀剂层具有穿过所述抗蚀剂层的开口。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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