上海
第十届国际先进光刻技术研讨会
（IWAPS 2026）
-IWAPS 2026-
第十届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）即将开幕，诚邀您共赴学术盛宴！在这里，产业界与学术界的最前沿研发成果交汇，国际光刻技术动态深度交融！
国际先进光刻技术研讨会（IWAPS），依托中国创新沃土，搭建全球交流平台。在国内外光刻专家的鼎力支持下，在全球企业、高校、协会等的共同支持下，IWAPS持续构建覆盖光刻设备、工艺、检测和测量、掩模和材料、计算光刻、设计与工艺协同优化及新型光刻技术等主题的国际先进光刻交流平台。
IWAPS持续欢迎全球领军企业分享产业发展蓝图碰撞智慧，持续期待科研院所聚焦核心技术挑战分享创新成果，诚挚邀请青年学者携蓬勃朝气参与技术思辨，亦为投资机构洞察行业机遇开启前瞻视野。
IWAPS是一个开放的学术交流平台，来这里聆听世界的学术声音，发现技术发展的瓶颈，共筑光刻技术创新未来。让我们相约金秋，共绘蓝图！
第十届IWAPS计划于
2026年9月10-11日于深圳国际会展中心举行
请于9月9日报到
欢迎各位学术和产业界的朋友莅临指导，积极投稿演讲！
SPIE（国际光学工程学会）成立于1955年，是一个致力于光学和光电子学的国际专业组织。总部位于美国华盛顿州贝灵厄姆，SPIE的使命是推进光学和光电子技术的科学、应用、教育和商业。SPIE每年举办多个国际会议和展览，为科学家、工程师和企业提供展示最新研究成果和技术的平台。此外，SPIE Digital Library是全球最大的光学和光电子学文献数据库之一，提供了丰富的学术期刊、会议论文集和书籍，覆盖光学、光电子学、激光技术、生物医学光学等领域。这些资源和活动不仅促进了全球光学和光电子学的发展，也推动了创新技术的应用和专业人才的培养。
本届IWAPS接收论文将被送检SPIE Digital Library及EI。欢迎大家踊跃报名！
-征稿范围-
IWAPS致力于发表前沿的微电子制造技术研究成果。会议主题涵盖先进半导体制造领域中从早期的理论和实验，到工业化大规模量产的应用等内容。包括但不局限于:
光刻工艺；
计算光刻和DTCO；
材料；
掩模；
量测及检测；
新型光刻技术；
光刻设备装备；
其他Patterning技术。
-投稿要求-
摘要要求
摘要必须清楚地描述论文的性质、研究主题、研究内容、组织结构、要点以及研究意义。且用英文撰写。
摘要必须包括以下内容：论文标题、关键词、作者的姓名、所属单位、邮件地址和通讯地址。摘要的字数不应超过500个单词。对研究内容的细节的描述将增加稿件被接收的可能。同时，我们强烈建议在提交的摘要中使用图表。
摘要截至日期：2026年6月30日
摘要提交网址：https://spie.org/submissions/submit/overview.aspx?EventId=4101554
（使用SPIE投稿系统，若尚未注册请首先注册。请务必注意时间节点）
摘要录用通知日期：2026年7月21日
全文要求
论文摘要被接收后，作者需要按照全文模板的要求提交最终论文。论文全文模板参考SPIE会议标准模板。
本届会议论文将被送检SPIE Digital Library及EI，请务必在截止日期前投稿全文，否则不予送检，请严格参考模板格式。
论文投稿网址：https://spie.org/submissions/submit/overview.aspx?EventId=4101554
（使用SPIE投稿系统，若尚未注册请首先注册。请务必注意时间节点）
全文提交截止日期： 2026年8月31日
-投稿指南-
作者提交内容须知
Step 1：访问会议投稿的提交链接；
Step 2：输入所有必要信息，上传文件并提交；
Step 3：返回您的账户详情页面，查看并批准文件以完成提交；
Step 4：之后，如果您再次返回提交系统，请点击屏幕右上角的个人图标，登录您的SPIE.org账户；
Step 5：登录后，点击带有您姓名首字母的红色圆圈图标，以查看下拉菜单。点击“账户详情”；
Step 6：点击您所在研讨会的链接，进入提交与评审系统。 蓝色字体的研讨会标题是一个链接；
Step 7：使用投稿链接来管理您当前提交的内容。6月30日前请提交摘要，7月21日-8月31日提交全文。
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