北京
国家知识产权局信息显示，上海集成电路研发中心有限公司申请一项名为“像素坏点处理方法、装置、系统、芯片、介质及程序产品”的专利，公开号CN122093685A，申请日期为2024年11月。
专利摘要显示，本申请提供一种像素坏点处理方法、装置、系统、芯片、介质及程序产品，涉及图像处理技术领域，方法包括：获取待检测的像素阵列，针对像素阵列中的每一待测像素点，确定待测像素点的第一均值偏离度和第一均值；确定该待测像素点左右两侧区域内像素点的均值偏离度、上下两侧区域内像素点的均值偏离度、左上到右下对角线方向上像素点的均值偏离度以及右上到左下对角线方向上像素点的均值偏离度，该四个邻域的均值偏离度，可以提供周围像素点更全面的像素状态信息，进而综合考虑第一均值偏离度、第一均值和四个邻域的均值偏离度，以包含更多像素点的上下文信息，从而更好地识别坏点簇中的中心坏点，提高对坏点簇的识别能力。
天眼查资料显示，上海集成电路研发中心有限公司，成立于2002年，位于上海市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本30060万人民币。通过天眼查大数据分析，上海集成电路研发中心有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目298次，财产线索方面有商标信息108条，专利信息2188条，此外企业还拥有行政许可88个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
