北京
国家知识产权局信息显示，广州志橙半导体有限公司申请一项名为“一种基于CVD涂层工艺的尾气处理方法及设备”的专利，公开号CN122013142A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本申请公开了一种基于CVD涂层工艺的尾气处理方法及设备，包括：获取尾气管道内的尾气流量数据，根据尾气流量数据与目标流速的差值调整尾气管道的流速；获取尾气管道相对两端的温度数据，根据温度数据与预设温度的差值调整尾气管道内的相对两端的温度；获取尾气管道内结垢状态值，若结垢状态值大于预设阈值，向尾气管道内通入氮气；获取尾气管道内的压力值，根据压力值调整氮气的通入量和通入时间，完成尾气处理流程。本申请通过综合调控尾气管道内的流速、温度、结垢状态和压力，提升了尾气处理系统对复杂工况的适应性，克服了现有技术中因管道布局限制、高温伴热带损坏、保温棉增加维护难度及结垢问题导致的处理效率低和维护成本高的问题。
天眼查资料显示，广州志橙半导体有限公司，成立于2020年，位于广州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本12000万人民币。通过天眼查大数据分析，广州志橙半导体有限公司参与招投标项目19次，专利信息26条，此外企业还拥有行政许可49个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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